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一种柔光抛釉砖的制备方法 　　摘 要：本文介绍了柔光抛釉砖的生产工艺流程，重点介绍了制备方法中的底釉配方、柔光釉配方、烧成制度和抛光工序这四个关键技术，通过以上几个关键技术的综合得到的柔光抛釉砖产品光泽度为15～35，漫反射光柔和舒适、产品手感细腻平滑、耐磨性高、防污性能最优。 　　关键词：底釉配方；柔光釉配方；抛光工序；烧成制度 　　1 引言 　　随着社会经济的不断发展，人们对生活品质、生活环境的要求也不断提高，具有天然仿石、简洁、高品位的装饰材料成为消费的主流。全抛釉砖集抛光砖和仿古砖优点于一体，即可实现釉面如抛光砖的表面一般光滑亮洁，又可实现釉面装饰效果如仿古砖般图案丰富、色彩绚丽。目前市面上全抛釉瓷质砖、微晶石及仿古瓷质砖已经逐步成为市场的主流产品，每一系列产品由于其理化性能不同，造成其各有优缺点。柔光效果的砖面因其光泽度柔和，装饰典雅，是人们喜欢的高档建材。 　　现有技术制备的抛釉砖光泽度很高，很少有哑光制品，主要是因为，按照传统的方式，制备哑光制品，只需将抛磨工段中的精磨去掉，即降低磨具细度即可。但是通过这种方式虽然降低了表面光泽度，可以得到柔光制品，但因表面划痕严重，这些划痕影响装饰，而且特别容易吸污，不利于使用后的保洁服务。因此需要对现有工艺进行改良，才能获得具有装饰效果好而且耐污的哑光抛釉砖产品。 　　2 柔光抛釉砖的生产工艺流程 　　柔光抛釉砖的生产工艺流程如图1所示。 　　3 柔光抛釉砖的关键工艺技术 　　3.1 底釉配方 　　为了减少产品在烧后釉面上出现小凸点（痱子）、针孔等缺陷，同时还要考虑喷墨墨水的发色情况，项目组成员做了大量的对比实验，反复调整面釉配方组成和烧成温度，最终确定了配方结构，在原有面釉配方基础上增加了硅、铝的含量，减少钙、镁等的含量。底釉配方组成如表1所示。 　　3.2 柔光抛釉配方 　　柔光釉要求表面柔光，光泽度范围固定，手感细腻，烧成范围宽。本试验选用高钾长石再配制一些辅助原料（如霞长石、白云石、碳酸钡等），拓宽其烧成范围，并保持釉料发色效果和稳定的釉面光泽度，使釉面更加细腻并得到柔光的效果，同时光线产生漫反射，形成无光效果。经过反复试验和比较，最终确定哑光釉的配方主要如表2所示。 　　3.3 烧成制度 　　将柔抛釉打饼，并测其熔融温度范围，如图2所示。由图可知，产品从1000 ℃开始出现熔融现象，1150 ℃完全熔融，熔融范围宽，利于烧成。 　　为了确保柔光釉产品光泽度范围这一特性，并且根据柔光釉的熔融温度范围特性，需要对窑炉的烧成制度加以改进。与普通仿古砖对比首先延长窑炉中温区的氧化带，以促进坯体有釉料排气并且充分反应，使得烧出的产品表面无针孔；其次在高温烧成带采用慢烧的方式，使烧后产品的釉面细腻，同时严格控制好窑炉的烧成气氛，尽量减少窑炉内的落脏。柔光石产品烧成曲线如图3所示。 　　3.4 抛光工序 　　本抛光工序采用四段抛磨，第一段为：使用弹性磨块作为抛光磨具的抛光机， 抛光介质使用树脂粘结金刚砂磨料，磨料的细度为100～240目；第二段为：使用哑光模块作为抛光磨具的抛光机，抛光介质使用树脂粘结碳化硅和氧化镁磨料，磨料的细度为250～350目；第三段为：使用研磨擦作为抛光磨具的抛光机，研磨擦的刷毛是由硬质塑料和碳化硅磨料构成，磨料的细度为320～400目；第四段为：使用抛光片作为抛光磨具的抛光机，抛光片的抛光介质为与纤维结合的碳化硅磨料，即所述抛光片是将碳化硅磨料嵌入纤维中，通过压实或粘结压实获得，磨料的细度为320～600目。 　　4 结论 　　本文所述的柔光抛釉砖制备方法是通过精心、严谨的配方设计，科学的烧成制度，独创的抛光过程以及完善的工艺参数相结合的产物。柔光石产品生产工艺技术稳定、可行，生产的产品品质稳定、各项理化性能优异，证明产品配方合理，生产工艺过程可控。29度柔光系列产品具有仿石材图案效果逼真、层次丰富、纹理自然，光泽柔和等特点，极大地提升了产品品质，是高档装饰的首选材料。 3