4Cr13不锈钢表面镀TiN薄膜组织结构及性能的研究.pdfVIP

· 84 · 材料导报 B：研究篇 2014年 2月(下)第 28卷第2期 4Cr13不锈钢表面镀 TiN薄膜组织结构及性能的研究 张 焱，高 原，吴炜钦，王成磊 ，庞泽鹏，程敏楠 (桂林电子科技大学材料科学与工程学院，桂林 541004) 摘要 采用多弧离子镀技术在4Cr13不锈钢上沉积TiN薄膜，在其他参数不变的条件下，研究不同弧电流下 薄膜的组织、结构及性能。利用扫描电子显微镜 、x射线衍射仪、显微硬度计、划痕仪和往复式摩擦磨损仪分别对薄 膜进行表面形貌观察，物相分析，以及表面硬度、结合力、耐磨性检测。实验结果表明：弧电流对薄膜的表面形貌有明 显的影响，随着弧电流的增大，薄膜表面的液滴数 目和尺寸逐步增大；薄膜的相结构主要由TiN相组成，在(111)面有 较强的择优取向，且随着弧电流的增大，衍射峰强度略有增加；随着弧电流的增大，薄膜的硬度先增大后减小，硬度值 最大为2897HV；随着弧电流的增大，薄膜的结合力先增大后减小，当弧电流为 105A时，薄膜的结合力最大，为 75N；随着弧电流的增大，薄膜的摩擦系数先减小后增大，当弧电流为 105A时，薄膜的耐磨性最好。 关键词 弧电流 TiN薄膜 不锈钢 结合力 耐磨性 中图分类号：TG156 文献标识码 ：A InvestigationonM icrostructureandPropertyofTiN Film Depositedon the Surfaceof4Cr13StainlessSteel ZHANG Yan，GAO Yuan，WU W eiqin，W ANG Chenglei，PANG Zepeng，CHENG M innan (SchoolofMaterialsScienceandEngineering，GuilinUniversityofElectronicTechnology，Guilin541004) Abstract TiN filmsweredepositedon4Cr13martensiticstainlesssteelbymulti-arcionplating(MAIP)when theotherparameterswerefixed．Theeffectsofcurrentsoftargetappliedtothesubstrateonthestructuremicro—hard— nessandadhesion strengthofthefilmswerestudied．ThesurfacemorphologiesofTiN filmswereinvestigatedby SEM ，thephasestructureswereinvestigatedbyXRD，themicro-hardnessofcoatingswereinvestigatedbyhardness instrument．Theresultsshow thatthenumberandsizeoflargeparticlesinthefilm increasedwhenthecurrentsoftar— getincreased；thephasestructuremainlycomposedofTiN phase，thefilm tendto(111)preferred；themicro-hard— nessoffilm increasedatfirstthendecreasedasthecurrentsoftargetincreased．themaximum hardnessvalueswas 2897HV；theadhesionstrengthofthefilmsincreasedatfirstthendecreasedasthecurrentsoftargetincreased，when thecurrentsoftargetwas105A，themaximum adhesionstrengthofthefilmswas75N；thecoefficientoffrictionof