Al-（3＋）杂质对KDP晶体光学质量影响的研究.pdfVIP

卢永强 等：Al”杂质对 KDP晶体光学质量影响的研究 A13十杂质对 KDP晶体光学质量影响的研究 卢永强，王圣来，牟晓明，丁建旭，孙 云，王正平，程秀凤 ，许心光 ，王 波 (山东大学 晶体材料 国家重点实验室 ，山东 济南 250100) 摘 要 ： 用传统降温法和快速生长法生长 了Al抖 离 角[73。通过超显微法观察 了掺杂 晶体 中散射颗粒_8]。 子掺杂的磷酸二氢钾 (KDP)晶体，并对掺杂的KDP晶 损伤阈值的测量所用激光波长为 1064nm，脉宽 10ns， 体的光学质量进行 了测试和分析 。实验表明，Al计掺 测量方式采用 1：1方式 (固定能量改变测试位置，计 杂对 KDP晶体的透光率没有明显的影响 ，但会使晶体 算损伤概率)，以损伤概率为 10 时的能量计算损伤 的光散射加剧 ，光学均匀性和激光损伤阈值下降。 阈值。 关键词 ： KDP晶体 ；A1。 ；光学质量 ；透过率 ；光学均 3 结果与分析 匀性 ；损伤 阈值 中图分类号： 0782 文献标识码 ：A 3．1 透过率 文章编号 ：1001—9731(2010)05—0915-03 晶体透过光谱示于图 1和 2。 1 引 言 KH PO (KDP)晶体作为惯性约束 聚变 (ICF)中 竺 倍频与开关器件的首选材料 ，受到人们广泛的重视_【】]。 墨 为满足 ICF工程 的需要 ，人们对 KDP晶体生长技术 ， 磊 C 晶体性能等方面进行了大量的研究。溶液中杂质作为 影响 KDP晶体光学质量 的关键因素 ，受到了很大的重 视 ]。A1。离子是溶液中一种常见的金属离子 ，曾作 Wavelengthlnm 为传统降温法柱面抑制剂使用，但其对 晶体光学质量 图1 传统法 Al。离子掺杂 KDP晶体的透过率 的影响方面缺乏全面的研究_4]。 Fig lThetransparentspectraofthecrystalsdoped A1。 withtraditionalgrowthmethod 本文主要研究 了Al。离子掺杂 KDP晶体的透过 率 、均匀性、光散射 、晶体损伤等性能，并讨论 了高价金 属离子对 KDP晶体光学质量的影响机理。 蔷 芒 2 实 验 墨 磊 2．1 晶体生长 C 实验使用的KDP原料为德 国MERCK公司生产 的分析纯级 KHzPO ，掺杂试剂为分析纯级的AlCl。· 5HzO，生长容 器为 1000ml广 口瓶，饱 和点取 50℃。 采用传统降温法和 “点籽晶”快速生长法两种方法分别 生长 Al 离子掺杂晶体 ，生长速度分别为 3和 lOmm／ 8 e- d。采用厦门宇电公司的AI708P 自动控制水浴温度 ， 量 晶体采用 “正一反一正”方式旋转 ，转速为 77r／minc6]。 善 C 2．2 光学性能测试 晶体样品切面垂直