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AZO薄膜制备工艺及其性能研究／黄 稳等 ·35 · AZO薄膜制备工艺及其性能研究 黄 稳 ，余 洲 ，张 勇 ，刘 连 ，黄 涛 ，闰 勇 ，赵 勇 (1 西南交通大学超导研究开发中心材料先进技术教育部重点实验室，成都 610031； 2 新南威尔士大学材料科学与工程学院，悉尼 2052) 摘要 综述了掺铝氧化锌 (AzO)薄膜制备方法与光电特性，重点阐述 了磁控溅射法制备工艺参数如衬底温 度、溅射功率、气体压强、溅射时间、衬底和靶间距、负偏压等对AZO薄膜结构、光电性能的影响，并指出目前AZ0薄 膜的研究关键 以及所面临的挑战，展望了未来的研究方向。 关键词 AZO 结构特性 光电特性 r ResearchonPreparationTechnologyandPropertiesofAZO ThinFilms HUANG W en ，YU Zhou ，ZHANG Yong ，LIU Lian ，HUANG Tao ， YANYong．ZHAOYong， (1 SuperconductivityRDCenter(SRDC)．KeyLaboratoryofAdvancedTechnologyofMaterialsofMinistryof Education，SouthwestJiaotongUniversity，Chengdu610031；2 SchoolofMaterialsScienceandEngineering， UniversityofNew SouthWales，Sydney2052) Abstract Thepreparationtechnologyandopto-electricalpropertiesofAZO thinfilmsarereviewed．Thein- fluencesofmagnetronsputteringparameterssuchassubstratetemperature，sputteringpower，gaspressure，sputtering time，distancebetweensubstrateandtarget，negativebiasandsoononthestructuralandopto-electricalpropertiesof AZO thinfilmsaresummarized．Moreover，thekeyproblemsandthechallengesofthepresentresearchesarediscussed andthepossiblefuturedevelopmentsaregiven． Keywords AZO，structuralproperties，opto-electiicalproperties 透明导电氧化物薄膜(TCO)在可见光区具有较高的光 望指导制备出性能更好的AZO薄膜。 透射率，并具有优 良的导电性能，在平面液晶显示器、太阳能 1 AZO薄膜的制备与性能 电池[1]、节能视窗等光电器件领域具有广泛的应用。掺锡氧 化铟(ITO)薄膜是第一代透明导电氧化物薄膜(TC0)材料， 1．1AZO薄膜的制备 其因良好的光电特性而被广泛应用于各种光电器件，但原材 AZO薄膜的制备方法很多，如磁控溅射法_7 ]、溶胶一 料价格昂贵、铟资源短缺且有毒等限制了其研究和应用，所 凝胶法(Sol—ge1)[1。 、电子束蒸发法[1引、金属有机化学气相 以新一代透明导电氧化物[2]薄膜材料的研究如火如荼。其 沉积法(MOCVD)[1 、脉冲激光沉积法(PLD)[1鲴等。 中掺铝氧化锌