纠正套刻畸变.pdfVIP

维普资讯 · 设备改造与维护 · 纠 套剐畸蛮 罗仁宇 ， 舒 斌 【1．上海讯科微机电有限公司，上海 200233；2．镇江高等专科学校，江苏镇江 212009) 摘 要：介绍了调整扫描投影式光刻机畸变的几种方法。畸变是扫描投影式光刻机经常出现的问 题，由此而带来的各机台问不能套刻，给生产造成相当的麻烦。简单分析问题的成因及调整方法 关键词；扫描投影式光刻机；畸变；温度控制 中国分类号：TN305．7 文献标识码：B 文章编号：1004-4507(2006)0卜0067—03 CorrectingDistortion LUO Ren·yu SHUBin (1．Manufacutring(Shanghai)CO．，Ltd，Shanghai200233，2．ZhenjiangCollege，JiangsuZhenjiang，212009) Abstract：EssaybriefafewkindmethodsofcorrectingdistortionofScanProjectionMaskAlignment System ．Distortionusuallyappearhere．TheAlignmentSystem willhaveincompatibilityeachother．It willbringtroubleonmanufacture．Wewlilsimpleanalyzethecauses．Itisimportanttocorrect distortion． Keywords：Scanprojectionmaskalignmentsystem，Distortion，Temperaturecontrol 作为201什=纪80490年代的土流机 ，扫捕投 另外的机台上继续下一道光刻 。 影工光刻机垒今仍在半 体牛产线 卜广泛使用。尤 P—E机的光源足山HPC (高效能聚光系统)产 其足PERK]N-EL,MER公一J的系列产品更是在lO0mill生 生，它是一条 弧状、狭窄、再处光强均匀的光 产线大黾使用， 此，埘扫捕投影式光刻机的一 弧。光通过MASK STAGE上的光刻扳 (MASK)，经 些特 自问题的探索 、研究仍然具有现实意义。这 过投影光学系统的多次反射将光刻板上的图形投影到 甲_，我们着重介绍、分析PE扫描投影光刻机 (简 硅片 (WAFER) 。光刻时，投影系统静I卜，MASK 称P—E机)光学系统发生畸变的原冈及其调整方 STAGE和WAFER STAGE依附在CARRIAGE上，并随其 法。冈为畸变的1竽在，硅片在光刻时其表面的图 扫捕摆动使得光刻板的图形全部投射到硅片 卜并埘其 形发生变 ，使得 图形 f／能完仝会准， 小可在 表面的光刻胶曝光，完成整个光刻过程 ，见图l。 收稿 日期 ：2005—12-06 作者简介：岁仁宇 (1964)，男， 庆人，T程Jf巾，l986年毕业 U【了科技人学，先后从 垃备调试、产品销售 ． ， 任T程帅、销售处处长：土要从事半导休设备的测试、维修lI作，如离子注入、蒸发溅射 ，尤 精通投影式、 接触式光；Ij『机等 备。 维普资讯 · 设备改造与维护 · ■ 口 ● =rI描方向 图1 光剖机光学系统 图3 垂直扫描方向畸变 良的扫描几何结构和温度变