基于场发射三极管的设计及性能研究.pdfVIP

助 材 料 2013年第8期(44)卷 基于场发射三极管的设计及性能研究 张新月 ，麻华丽 ，曾凡光 ，姚 宁。，张兵临 (1．郑州航空工业管理学院数理系，河南 郑州 450015； 2．郑州大学 材料物理教育部重点实验室 ，河南 郑州 450052) 摘 要： 采用微波等离子体化学气相沉积法在不锈 2 实 验 钢衬底上制备 出了纳米非晶碳和碳纳米管混合薄膜 ， 二极管结构测试表 明薄膜材料具有优 良的场发射性 2．1 纳米非晶碳和碳纳米管薄膜材料的制备 能。利用制备的薄膜材料作为阴极制作 了前栅极结构 利用直径为 10mm 的不锈钢作为衬底 ，在沉积薄 的场发射三极管器件并对其性能进行 了测试 。结果表 膜材料之前 ，首先将不锈钢衬底用粒度为 20p．m 的金 明该器件具有优 良的栅控性能，亮度很 高，有 良好的应 钢砂机械研磨 30min之后用酒精和去离子水反复清 用前景 。 洗。采用微波等离子体化学气相沉积法来制备非晶碳 关键词 ： 场发射三极管；前栅极 ；纳米非晶碳和碳纳 和纳米碳管混合薄膜材料 。用CH 和 H。的混合气作 米管 为反应气体，流量分别为 16、100mL／min。压力为 5．0 中图分类号： TN383．1 文献标识码：A kPa，时间为 3h，反应温度是 700。C。 文章编号 ：1001—9731(2013)08—1150—03 2．2 场发射三极管的设计 场发射三极管采用前栅型结构，其结构 图如 图 1 1 引 言 所示。与其它制作工艺相 比在很多方面得到了改进 。 场致发射显示器 FED(fieldemissiondisplaypan— 首先在直径为 lOmm不锈钢衬底上焊接 阴极导线 ，而 e1)是一种新型的平板显示装置，它在保 留了阴极射线 后再按前述条件生长非 晶碳和碳纳米管薄膜，以避免 管显示器高图像质量的基础上 ，实现了完全平板化 、薄 先沉积碳膜后焊接引线时对碳膜造成损坏 。 型化和轻型化 的转变 ，具有分辨率高、对 比度大、响应 速度快、功耗低 、温 区广等特性 ，拥有广 阔的市场前 景_1]。场致发射显示的分类方法很多，按结构可简单 地将无栅极的称为二极管结构场致发射 ，有栅极的称 为三极管结构场致发射。由于二极 FED亮度低 ，灰度 米管 再现性能差 ，使其作为显示器有很大 的局限性 。更多 的研究机构将研究 的重点放在三极 FED 上。三极 FED按栅极位置的不同，大致可分为前栅极和后栅极 Fig 1Schematicview ofnormal—gatetriodestructure 和平栅极 3种，3种结构各有其优缺点 。 阳极采用厚度为 3mm、直径为 20mm 的 ITO导 决定场发射三极管性能的重要因素在于阴极场发 电玻璃，低压荧光粉均匀地涂覆在 ITO 电极表面，其 射材料 ，作为传统 的尖端场发射阵列阴极加工工艺复 具有 阈值电压低 (几伏至十几伏)、发光效率高 、制作工 杂，制作成本 昂贵 ，难 以达到大面积均匀。第二代