印刷概论教案 第五章 印版制作.docVIP

第五章 印版制作 教学目标： 通过本章的学习使同学们了解常见的制版方法；掌握阳图型PS版制版工艺； 教学重点： 阳图型PS版制版工艺 教学难点：阳图型PS版制版工艺 教学时数：理论2学时、实践2学时 课程类型： 理论课程、实践课程 教学方法与手段： 讲授 、实训 教学内容： 一、凸版制版 1、刚性凸版 制版的工艺流程为：底片的准备——版材的准备——晒版——腐蚀——整版——打样 （1）底片的准备：所用的底片是正向阴图。如果底片上有砂眼、脏点或线条不实以及阶调与原稿层次有差别时，需要修正。 （2）版材准备：裁切需要的尺寸，清洁研磨版材，涂布铬胶感光液，烘干 （2）晒版：曝光、显影和烤版 （3）腐蚀：是使有硬化胶层的图文部分保持原状，而无胶层的空白部分经过腐蚀后就凹陷下去，从而形成图文和空白部分。 铜版：用三氯化铁溶液 锌版：用硝酸溶液 （4）整版：用氢氧化钠溶液把版的油渍除去，再用清水冲洗 （5）打样：在打样机上打出样张，与原稿核对检查，如有不足之处再进行修改 2、感光树脂柔性版 （1）固体感光树脂版 ①裁版：根据阴图尺寸，版边预留12mm夹持余量 ②背面曝光：建立印版的浮雕深度和加强聚酯支撑膜和感光树脂层的粘着力；光源：UV-A（波长320～400nm） ③正面曝光：平面曝光、圆形曝光 ④冲洗显影：氯化烃系溶剂（三氯乙烷） ⑤干燥：烘箱干燥 ⑥去粘：光照法（UV-C：254nm)、化学法、喷粉法 ⑦后曝光：对印版进行全面曝光，使版面全面硬化 （2）液体感光树脂版 ①铺流：阴图乳剂面向上、薄膜覆盖、铺流感光液、滚压底衬 ②背曝光：放下上玻璃板，曝光1～2min③主曝光：15～20min④冲洗显影：稀碱液 ⑤后曝光 ⑥烘干 （3）柔性版数字化制版 ①激光直接雕刻制版 ②激光烧蚀成像制版 装版→激光曝光成像→背曝光→主曝光→冲洗→烘干→去粘→后曝光 A．装版：真空吸气装置吸附，胶粘带密封 B．激光曝光成像：激光烧蚀相应图文部位的黑色膜层，阴图掩膜 二、平版制版 1、预涂型感光版（PS版）制版 阳图型PS版：见光部分分解，溶于稀碱液，未见光部分不溶 阴图型PS版：见光部分聚合不溶于显影液，未见光部分具有可溶性 阳图PS版制版工艺： 曝光：将阳（阴）图底片的乳剂面与PS版的感光层密合在一起，放置在专用的晒版机内曝光 显影：用显影液对曝光后的PS版进行显影处理，将溶于显影液的感光层从印版表面除去，形成亲水的空白部分。不溶于显影液的感光层则留在版面上，形成了亲油的图文部分 除脏：利用除脏液，把版面上多余的规矩线、胶带粘帖边缘留下的痕迹、尘埃物等清除干净 烤版：提高印版的耐印力 涂显影墨：增加图文对油墨的吸附性，同时也保护了版面及便于检查版面质量 上胶：是非图文的空白部分亲水性更加稳定，并保护版面免被污染 2、其他的平版印版 （1）多层金属平凹版 制版工艺流程为 版材表面粗化——镀铜——镀铬——涂布感光液——曝光——显影——二次曝光——腐蚀——上胶 （2）氧化锌纸基版 制版工艺流程为 原稿和光敏版准备——充电——曝光——显影——修版——固像——亲水处理 三、凹版制版 1、凹版表现层次的方法 （1）网穴的深浅：照相凹版、激光雕刻凹版 （2）网穴的面积大小：照相加网凹版、激光蚀膜腐蚀凹版 （3）网穴的面积大小和深浅：电子雕刻凹版、电子束雕刻凹版 2、印版滚筒的结构 （1）基础钢辊：滚筒的基础和载体 （2）镍层：结合层，使铜层与钢辊之间牢固地结合在一起（1～3 μm） （3）基础铜层：延长印版滚筒的使用寿命和提高印版滚筒的使用性能（2mm） （4）剥离层：便于剥除制版铜层 （5）制版铜层：制版工作层（100 μm ） （6）铬层：保护层（5～8 μm ） 3、腐蚀法制版 （1）影写版制版 制版工艺流程为： ①晒碳素纸 条件：橙色安全灯下，温度22℃，相对湿度65％ 操作：放入浓度为4%的K2Cr2O6浸泡3～4分钟，再取出平铺在玻璃上，放入干燥箱中干燥。 晒网格（白线网屏）方形K45 ° C75 ° M15 ° Y0° 六角形30 °60 碳素纸曝光　晒图像（连续调阳片） 补曝光：在光源前停留数秒，使整个胶层表面硬化 ②过版：将晒过网线和图像的炭素纸，粘附在铜印版滚筒表面 干法：在过版机上边转贴边喷水 湿法：先湿润后转贴 ③显影 预显影：显影槽中25℃～28℃温水转动5～7分钟，水温升到34 ℃直至纸基脱落。 正式显影：水温升到40 ℃高速旋转显影10分钟，使未硬化的胶层全部溶解掉 冲洗和干燥：水温降至25 ℃静置5分钟，再放水，分别用60％、80％、100