NDL 快速退火系统招标规范书修订版.DOC

國家奈米元件實驗室 快速退火系統 招標規範書 目錄 頁次 3 二、 規範 3 三、 審查文件 6 四、 履約期限 6 五、驗收標準 6 五、 保固 7 一、 說明： 本規範適用於財團法人國家奈米元件實驗室本次採購之快速退火系統，其他詳如章節詳細規定；本規範如有任何疑慮依業主解釋為準。 二、 規範： 分為腔體模組、溫控加熱模組、真空模組、製程供氣模組、電腦系統模組、安全保護模組和二次配系統工程。 腔體模組： (1). 機台主體外觀尺寸：小於 (含三色警示燈)。 (2). 腔體內部空間：最大6吋矽晶圓一片，另外具有4吋破片之承載盤。(3). 腔體分為內外層，Quartz Tube將產品完全與金屬腔體隔離，內外層腔體之間通入可調節之Cooling Dry Air，以調節加熱源與內層Warm Wall Quartz Tube的溫度，並提升晶圓降溫速率。 (4). 腔體外部設有過溫防護Sensor，當外腔溫度超過70℃時，將自動啟動Inter Lock安全防護，Disable系統加熱功能，以避免因廠務冷卻水水溫、流量異常，導致系統過熱、損毁。 (). 可提供3種製程氣體匯流(N2、Ar、O2)，形成所需之製程反應環境，並預留一組製程氣體。(6). 非手動操作門板上有6吋石英托盤，並設有石墨承載盤定位點。(7). 非手動取放介面，具自動開、關門與Inter Lock功能，可由程式I/O介面獨立控制。 (). 具設備防震固定座(防震腳架)。 溫控加熱模組： (1). 熱源為紅外線鹵素燈管，，加熱時紅外波長直接穿透Quartz Tube，使試片與承載盤同時均勻地進行輻射加熱，配有比流器，由系統進行即時安全監控。 (2). 加熱溫度範圍從到最高溫1℃。 (3). 加熱速率須達0℃/sec (In N2 Gas Flowing)，℃/sec (In N2 Gas Flowing)，可程式控制升溫、降溫和持溫且溫度再現性為±2 ℃。 (4). 可通入Cooling Dry Air，以調節加熱源與內層Warm Wall Quartz Tube的溫度，並提升晶圓降溫速率。(5). 具有K-Type Thermocouple 2支以上 (室溫 (R.T) ~800℃ 控溫或監控用Sensor)。 (). 具有Pyrometer 1支以上 (400 ~1 ℃ 控溫或監控用Sensor)。 (). 使用PID控制介面，並Windows OS操作，可由Recipe頁面進行製程參數設定，包括製程升、降溫段、冷卻段的溫度、時間、製程氣體流量、溫度控制Sensor選擇功能。(8). 以SCR (矽控整流體) 做為功率控制器，並將溫度劃分為至少個區域，進行分組控制，每組SCR分別控制2~6只鹵素加熱源，且輸出功率均可透過GUI介面進行參數化調整，確保腔體溫度均勻性達±1%。 真空模組： (1). 具備抽氣系統和真空計、必要之隔離閥門與氣動閥件並含有整合控制系統。 (2). 真空抽氣系統能力從大氣抽至x10-2 Torr需小於mins。 製程供氣模組： (). 具有N2氣體之流量計(MFC)，最大流量10 SLM。 (). 具有O2氣體之流量計(MFC)，最大流量1 SLM。 (). 具有Ar氣體之流量計(MFC)，最大流量1 SLM。 電腦系統模組： (). 使用PC2.4G以上工業電腦，具有Win XP 等級以上作業系統，和2G的 RAM，硬碟空間須大於300G。 (). 可自動儲存製程相關數據及圖形紀錄，所有製程資料均可轉存為文字格式，便於使用者自行匯入Microsoft Office進行資料分析與整理。 安全保護模組： (). 當機台出現異常，如外層腔體過溫防護、紅外線鹵素燈管異常、製程控溫點與監控點的溫度差異…等，將顯示異常訊息內部保護裝置(interlock)。 (). 須有緊急停止(Emergency stop)裝置，並配置在明顯位置。 (). 須有自動偵測水、電、氣異常狀況之裝置，並會顯示異常訊息。 廠務二次配施工工程：(1). 氣體系統部份連接到機台端(N2、CDA、Ar、O2)，得標廠商須依實際情況配置。 (). 電力系統部份連接到機台端，得標廠商須依實際情況配置。 (). 廢氣處理系統部份連接到機台端，得標廠商須依實際情況配置。 (). 冷卻水系統連接到機台端，得標廠商須依實際情況配置。 (). 廠商於投標前須先勘查機台搬運動線和二次配施工評估並和本實驗室廠務工程師討論規劃，施工部份必須比照及符合廠務二次配管工程規範。如附件一。 教育訓練： 廠商應於機台驗收前完成本實驗室人員(至少兩位)之教育訓練，其包含機台之維修保養，系統之操作與製程上問題之排除，並附該設備日常維修（PM）要用之基本維護工具壹套。教育訓練時間至少每人1