基于DSP的直流磁控溅射电源设计.pdfVIP

2017年第2期　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 工业仪表与自动化装置 ·47 · 基于DSP 的直流磁控溅射电源设计 周志文,王晓燕 (西北民族大学 电气工程学院,兰州730124) 　 　 摘要:该文通过研究磁控靶工作时的负载特性,设计了以全桥逆变开关电源技术为基础的高 效、大功率磁控溅射电源。 利用Matlab搭建的模型对电路的参数、输出波形进行了仿真,在仿真的 基础上完成了主回路、控制电路硬件及软件程序的设计及样机测试,并在JTP-1400 型磁控溅射镀 膜机上进行了实验。 实验结果证实该电源具有恒流控制效果好,电流截止负反馈反应迅速,工作稳 定等优点。 关键词:磁控镀膜;开关电源;仿真;DSP 中图分类号:TP273;TB43　 　 文献标识码:A　 　 文章编号:1000-0682(2017)02-0047 -03 Design of DCmagnetron sputtering power supply based on DSP ZHOU Zhiwen,WANGXiaoyan (College of Electric Engineering,NorthwestMinzu University,Lanzhou730124,China) 　 　 Abstract:In thisarticlemagnetronregulatedpowersupplywithhighpowerandhighefficiencyisde- signed on the basis of the full bridge inverter switching power supply technology after studies the load characteristics of magnetron target. A simulating model is composed with MATLAB to study the parame- ters and the waveforms of the designed circuits,the hardware circuit and the software program are de- signed on the basis of simulation results. The prototype of power supply is tested. The power supply has experimented on the type of JTP-1400 magnetron sputtering coating machine,the experimental results confirm that the power supply has good constant current control effect,fast response of current cut -off negative feedback and work stability etc. 　 　 Key words:magnetron sputtering ;switching power supply;simulation;DSP 辉光放电现象,此时的负载特性为高电压、小电流。 0　 引言 由于负载的变化或电源输出的变化,工作过程可能 真空磁控溅射镀膜技术是在真空环境下,将镀 会过渡到弧光放电,此时的负载特性是低电压、大电 材溅射到被镀材料表面,这种镀膜方式具有操作工 流,电流过大会造成电源的损坏,这种工作方式是不 艺简单、镀层牢固、薄膜性能稳定、均匀性好、可沉积 容许的,所以要求电源有灭弧功能,弧光熄灭后又要 多层膜,同时膜离子能量一般高于热蒸发,容易获得