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退火温度对二氧化钛薄膜的性能影响.pdf
第39卷第1期 光学仪器 VoL39，No．1
2017年2月 OPTICALINSTRUMENTS February，2017
文章编号：1005—5630(2017)01—0068—05
退火温度对二氧化钛薄膜的性能影响
潘长锦，张大伟，王 健，卢忠荣
(上海理工大学光电信息与计算机工程学院，上海200093)
摘要：为了获得性能优良的二氧化钛薄膜，采用电子束蒸发沉积方法制备二氧化钛薄膜，并分别
在300、600、900℃空气中对样品进行退火处理以改善所制备二氧化钛薄膜的性能。分别采用x
射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及分光光度计研究了退火温度对二氧化钛薄膜结构
和光学性能的影响。结果表明，退火处理可以使二氧化钛薄膜由非晶态薄膜转换为金红石型薄
膜，且金红石晶型成分随退火温度的加大而增大，同时退火处理可以改善二氧化钛薄膜在300
1200
nm光谱范围的总吸光率以及增大二氧化钛薄膜的应用范围。
关键词：二氧化钛薄膜；退火温度；X射线衍射(XRD)；原子力显微镜(AFM)；透射率
1005—5630．2017．01．012
中图分类号：O484．4文献标志码：Adoi：10．3969／j．issrL
Theinfluenceofthe onthe of
annealingtemperatureproperties
thinfilm
titaniumdioxide
PAN in，ZHANGDawei，WANG
Changj Jian，LUZhongrong
of and forScienceand
(School of 200093，China)
0ptical-Elect“calComputerEngineering，UniversityShanghai Technology，Shanghai
Abstract：Inordertoobtain oftitaniumdioxidethinfilm，this
goodperformance experiment
thefilms
usedelectronbeam methodtofabricatetitaniumfilms．Then
evaporationdeposition
wereannealedat300 900 to the ofthe
degrees，600degrees，anddegreesimproveperformance
oftitaniumdioxidethin force
diffraction(XRD)，atomic
preparation film．X-ray microscope
(AFM)and wereused to theinfluenceofstructureand
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