中频对靶反应磁控溅射Al2O3 、TiO2 、ZrO2功能薄膜的特性研究3.PDF

中频对靶反应磁控溅射Al O 、TiO 、ZrO 功能薄膜的特性研究 2 3 2 2 贾军伟 ,潘文霞 ,黄河激 ( 中国科学院力学研究所 工程科学部 ,北京 100 190) μ 摘 　要 :利用中频对靶磁控溅射技术 ,分别制备出厚度低于 5 m 、表面光滑的 TiO 、Zr O 、Al O 3 种 2 2 2 3 功能薄膜 。研究了不同工艺条件下薄膜的成膜速率和表面形貌 ,用四探针法测量了材料的薄膜电阻 ,并 表征了膜层材料在大气压热等离子射流急速加热条件下的抗热冲击特性 。 关键词 :功能薄膜 ;磁控溅射 ;薄膜电阻 中图分类号 : T G 174 . 444 文献标志码 :A 　　作为高温部分电离气体的热等离子体射流 ,在 保证溅射沉积稳定进行 ,使所制备的化合物薄膜具 发生器出口处的最高温度可超过 1 万度[ 1 ] ,用于材 有较小的缺陷密度和较好的致密性 。研究表明基片 料表面加工 ,具有很高的工艺速率 。研究高温气体 温度 、溅射电流 、溅射时工作腔压 、基片和靶材距离 、 射流与固相表面的换热机理 ,对于改进材料表面加 反应气体和辅助气体的组分比等参数是影响成膜质 [4 ] 工工艺 、提高其可控性和可重复性具有重要意义 。 量的主要工艺参数 。Zeman P 等人研究 发现 ,工 热等离子体射流向材料表面传热的热流密度及其分 作气压较低时 ,薄膜表面光滑致密 ,而工作气压较高 布 ,是研究等离子体射流与固相表面换热的重要参 时 ,薄膜表面疏松且存在较多孔洞 ;使用较小的靶电 数之一 ,通常采用动态法测量[2 ] 。作者所在实验室 流可改善镀层表面质量 , 制备出表面光滑致密镀 已在材料特性对其与等离体射流换热效果的影响方 层[ 5 ] ;衬底温度较低时 ,溅射粒子容易被衬底迅速 面作了初步研究[3 ] 。在实验室的前期工作中 ,各种 “冷却”,使其表面扩散长度大为减少而不能迁移到 材料采用涂敷的方法分别涂制在测量热流密度的铜 成核位置 。这样获得的薄膜表面粗糙 ,结晶质量差 。 探针表面 ,但涂层厚度和表面均匀性不能很好控制 。 Al O 、TiO 、Zr O 这 3 种薄膜材料具有不同热导率 2 3 2 2 为了减小探针表面各种材料涂层厚度和涂层表面形 和介电常数 ,并以其优异的性能在光电、防护 、装饰 、 貌差异对测量结果带来的影响 ,有必要尝试在探针 刀具等领域获得了广泛的应用[ 68 ] 。制备表征这 3 表面制备光滑 、致密 、厚度可控的薄膜 ,进一步研究 种功能薄膜 ,一方面可为研究功能薄膜制备工艺提