微米α-氧化铝粉体在水相介质中的分散性研究.pdfVIP

第 21卷 第 1期 V0I．21 NO．1 2015年 2月 Feb．2O15 微米 o一【氧化铝粉体在水相介质中的分散性研究 夏保红，孙玉ft．4，左敦稳 ，赵 研 ，邵 雳，吕程昶 ，刘恒俊 ，张 超 ，危崇敏 ，郑锦坤 (南京航空航天大学 机 电学院，江苏 南京 210016) 摘要 ：针对微米d一氧化铝粉体在水相介质中分散不好 的问题 ．采用单因 化学机械抛光 (CMP)技术 [I-2]广泛应用在集成 电 素法实验研究球磨时间、超声时间对微米 一氧化铝粉体在水相介质中 路 (IC)、超大规模集成电路 (ULSI)、计算机硬盘及光 分散性的影响，在此基础上采用正交实验研 究分散剂种类、分散剂浓度 、