碳化硅表面硅改性层的特性研究.PDFVIP

激光与光电子学进展 ， （ ） Ｌａｓｅｒ＆Ｏ ｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓＰｒｏ ｒｅｓｓ 《 》 ２０１２ 　 ｐ 　 ｇ Ｃ ２０１２ 中 国激光 杂志社 ○ 碳化硅表面硅改性层 的特性研究 张 峰 范 镝 高劲松 　 　 　 　 （ ， ） 中 国科 学 院长 春 光学精密 机 械 与物 理研究 所 光学 系统先 进 制 造技术 重 点 实 验室 吉林 长 春 １３００３３ ， 。 摘要 为 了获得 具 有 高质量光学表面 的非 球 面碳化 硅反 射 镜 需 对 碳 化 硅反 射 镜表面 进 行 改 性 介绍 了离子 束 辅 　 。 、 、 助沉 积 硅的碳 化 硅 表面改 性技术 对 改性 样 片表面 硅 改 性 层 的机 械 性 能 光 学 加 工 性 表 面 粗 糙 度 及 反 射 率 等 特 。 ， 。 ， 性进 行 研究 实 验 结果 表 明 碳 化 硅 表面 的硅改性 层 具 有 优 良的机 械 性 能 和 良 好的 光 学加 工 性 光 学 抛 光 后 碳 ［ （ ） ］， （ 化 硅 表面 硅 改性 层 的表面 粗 糙 度 为 ０．８５ｎｍ 均方 根 ＲＭＳ 值 在可 见 光 波段 反 射 率 最 高 可 达 ９８．５％ 镀 银 反 射 ）。 ， 膜 采 用 数 控 加工方 法 对 口径 为 Ф６００ｍｍ的表面改 性 离 轴 非 球 面碳化 硅反 射 镜 进 行 加工 最 终 反 射 镜面 形 精 度 （ ）， 。 的 ＲＭＳ值达 到 ０．０１８ ＝０．６３２８ ｍ 满足 高精度 空 间非 球 面反 射 镜 的技术指标 要 求 λλ μ ； ； ； ； ； 关键词 光学 表面 碳 化 硅 表面改 性 离子束 辅 助沉 积 表面 粗 糙 度 表面 反 射 率 　 中图分类号 文献标识码 ： ／ Ｏ４３６ Ａ ｄｏｉ １０．３７８８ＬＯＰ４９．０３２２０２ 　 　　　 　 　　　 Ｓｔｕｄ ｏｎＣｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃｓｏｆＳｉｌｉｃｏｎＭｏｄｉｆｉｃａｔｉｏｎ Ｌａ ｅｒｏｎ ｙ 　 　 　 　 　 ｙ 　 　 ＳｉｌｉｃｏｎＣａｒｂｉｄｅＳｕｒｆａｃｅ