反应磁控溅射法制备氧化钒薄膜 - 中南大学功能薄膜材料研究室.pdf

第 37 卷 第 12 期 稀有金属材料与工程 Vol.37, No.12 2008 年 12 月 RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERING December 2008 反应磁控溅射法制备氧化钒薄膜 刘凤举，余志明，陈 爽，方 梅 ( 中南大学 有色金属材料科学与工程教育部重点实验室，湖南 长沙 410083) 摘 要：采用反应磁控溅射加真空退火分别在玻璃和 Si(100)基底上制备氧化钒薄膜，利用 X 射线衍射和原子力显微镜 分析其物相和表面形貌。结果表明：氧气体积分数低于 15%时，玻璃上薄膜为低价钒氧化物，Si(100)上薄膜为 V O (001) 2 5 织构和 V O (104)织构，高于 20% 时两基底上薄膜均为 V O ；玻璃上 V O 薄膜 500 ℃下退火 3 h 生成 VO ，退火后薄 2 3 2 5 2 5 2 膜粗糙度明显下降；Si(100)上 V O 薄膜 500 ℃下退火 2 h 生成 V O (104)织构，退火后薄膜粗糙度变化不大。 2 5 2 3 关键词：反应磁控溅射；真空退火；V O ；VO ；V O 2 3 2 2 5 + 中图法分类号：TG 146.4 13 文献标识码：A 文章编号：1002-185X(2008)12-2221-05 钒的氧化物具有典型的热致相变特性，尤其是 15%、20%和25% ；靶材为纯度99.95%金属钒，尺寸为 V O 、VO 和 V O ，相变温度分别为 530、341 和 160～ φ60 mm×3 mm，靶到基底的距离为70 mm ；基底分别 2 5 2 2 3 170 K，在红外探测、非制冷红外成像、光电开关和 为普通玻璃和Si(100)，基底经过丙酮浸泡5 min后放到 智能窗等领域有广阔的应用前景[1~3] 。但钒的氧化物 蒸馏水中超声波清洗15 min；沉积薄膜前用氩气预溅 体系十分复杂，有 VmO ，VmOm-1 ，VmOm+1 ，VmO2m+l 射靶材5 min 以去除靶面的污染物，溅射功率和薄膜沉 和 VmO2m-1(m=1 ，2 ，3…) 5 个系列 13 种不同的物相， 积时间分别为200 W和30 min 。Po2=25%下沉积的VOx 各种物相的晶体结构和性能有很大差异，而且由于相 薄膜用石英管真空封装，极限真空度为0.02 Pa ，然后