电子散斑干涉 - SUTD.PDF

电子散斑干涉 陈陆捷 电子散斑干涉（简称 ESPI）常用于表面为漫反射试件的微变形测量。图 1 为 一个典型的 ESPI 实验装置。ESPI 数据处理过程包括包裹相位的提取，变形前后的 相位差，相位解包裹以及滤波。您可以从我的主页下载原图片并且尝试以下操作。 图1. 电子散斑干涉装置图。 1. 运行UU. 2. UU - 批处理 - 载入（载入四幅加载前的相移散斑图：Pre_1.png 到 Pre_4.png。） 3. UU - 光测 - 相移 (获得物体变形前的包裹相位。) 4. 对变形后的散斑图（Post_1.png 到Post_4.png）重复第2 和第3 步。包裹相位 图包含了与物体变形有关的相位分量，但看起来光强分部是随机的，见图2。 图 2. (a) 变形前，(b) 变形后散斑图的包裹相位。 5. UU - 工具 - 算数 - 图 1-图 2 （将两幅包裹相位图相减，相减顺序没有关 系。相减在很大程度上消除了与散斑有关的相位分量，保留了与物体变形有关的相 位图，见图 3(a)。然而相减使相位值的范围扩大到（-2 π,2 π），所以看起来仍 然是随机的。） 6. UU - 光测 - 包裹相位（将相位值从（-2 π,2 π）变为（- π, π），由此得 到的包裹相位图更容易理解，见图3 （b）。） 图 3. (a) 图2(a)和2(b)的相位差。(b) 图3(a)的包裹相位。 7. UU - 工具 - 滤波 - 多次 sin/cos （这一步使用一个较弱的平滑滤波有助 于减少相位解包裹的误差。图4(a)显示的是 3 次 sin/cos 滤波后的结果。然而如 果平滑过度，中心区域的高频信息有可能丢失。） 图 4. (a) 平滑后的包裹相位和 (b) 解包裹相位。 8. UU - 光测 - 基于质量的解包裹 - 基于相位导数方差 （将上一步得到的包 裹相位进行解相得到连续的相位分布,见图4(b)。） 9. UU - 工具 - 报告 - 三维高度（在 Fig 中显示位移分布。由于中心的高频 信息已经转为低频，这时可以对解包裹相位进行较强的平滑滤波。图 5(a)显示的 是没有再次平滑的三维分布，图 5(b)显示的是再经过 30 次均值滤波后的三维分 布。） 图 5 (a)没有再次平滑和 (b) 再使用30 次均值平滑后的三维分布。 UU 还提供了一种集成的相移散斑分析功能，UU - 光测 - 散斑处理，其中 对包裹和解包裹相位图的平滑滤波已经做了优化。用户分别变形前后相移散斑图载 入一个批，然后选中这两个批的窗口进行处理。图6 显示的是该功能处理后的包裹 和解包裹相位图。 值得注意的是这两幅相位图虽然非常光滑，但图 6(a)中心区域的高频相位信 息很好的保留了下来。包裹相位实际上是通过光滑的解包裹，图 6(b)，相位重新 打包得到的。 图 6 . 由UU - 光测 - 散斑处理得到的 (a) 包裹相位和 (b) 解包裹相位。