化学气相沉积(CVD)技术.pdf

微纳米加工及应用 化学气相沉积（CVD ）技术 及其在纳米材料制备中的应用 邢英杰 2013-4-9 1 课程内容 1. 化学气相沉积（CVD ）技术概述、金属有机化合 物化学气相沉积（MOCVD）技术概述 2. 等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术 3. 各种化学气相沉积技术在薄膜制备中的应用 4. 各种化学气相沉积技术在纳米材料制备中的应用 2 化学气相沉积 Chemical vapor deposition （CVD ） （工程）利用在气相中化学反应过程，在工件表面 形成具有特殊性能的金属或化合物涂层的方法。 （实验）直接利用气体或通过各种手段将物质变为 气体，让一种或数种气体通过热、光、电、磁和化 学等的作用而发生热分解、还原或其它反应，从气 相中析出纳米粒子，冷却后得到金属单质、合金和 非金属的氢、氧、氮、碳化合物等各类纳米薄膜。 3 化学气相沉积(CVD)技术的发展 古代炼丹术中的“升炼”？ 20世纪50年代，制作刀具的复合涂层。 20世纪60年代，J. M. Blocher Jr.提出概念。 20世纪70年代以来，在半导体工业得到了广 泛的应用：制作超纯多晶硅、砷化镓单晶， 以及各种掺杂的半导体单晶外延薄膜、多晶 硅薄膜、绝缘的二氧化硅、氮化硅薄膜等。 Chemical vapor deposition (IF: 1.804) 4 CVD （实验用） PECVD MOCVD 热、光、电、磁 流量控制 气源 真空泵 （废气处理） 真空室 基底 温度、压强控制 5 化学气相沉积技术分类 常压CVD 低压CVD （LPCVD） CVD 化 光CVD 学 MOCVD(Metal-organic CVD) 气 相 射频PECVD 沉 直流PECVD 积 PECVD 射频直流PECVD (plasma 直流脉冲PECVD enhanced 微波PECVD CVD)