衬底温度和氧分压对ZAO 薄膜结构及光学性能的影响.PDF

第 卷第 期 南 工 业 大 学 学 报 22 4 Vol.22 No.4 年 月 2008 7 Journal of Hunan University of Technology July 2008 衬底温度和氧分压对ZAO 薄膜结构 及光学性能的影响 1 2 2 红 李雪勇 戎茂华 （ 湖南信息职业技术学院基础部， 南 长沙 ； 湖南工业大学 理学院， 南 株洲 ） 1. 410200 2. 412008 摘 要： 用直流磁控溅射技术，以氧化锌铝陶瓷靶为靶材，在玻璃衬底上制备了 （ ）薄膜， Zn O :Al ZAO 研究了不同工艺参数对薄膜晶体结构及光学性质的影响。实验结果表明： 薄膜具有六角纤锌矿结构且呈 ZAO c 轴择优取向，晶粒垂直于衬底方向柱状生长，衬底温度和氧分压对薄膜的结构和光学性能有重大影响。在衬底 温度为200 ℃、氧氩分压比为1 % 时，薄膜结晶性能最好，平均透射率可达86.5 % 。 关键词： 薄膜；衬底温度；氧分压；透射率 ZAO 中图分类号： 文献标识码： 文章编号： 1673 9833(2008)04 0075 04 O484.4 A - - - Effect of Substrate Temperature and Oxygen Partial Pressure to ZAO Thin Films Structure and Optical Properties 1 2 2 Yang Hong ， ， Li Xueyong Rong Maohua （ ， ， ， ； 1. Basis Department Hunan College of Information Changsha 410200 China ， ，