辉光放电质谱分析技术的应用进展-冶金分析.PDF

冶金分析 ,2009 ,29 (3) :2836 Met allur gical Analy si s ,2009 ,29 (3) :2836 ( ) 文章编号 :1000 - 757 1 2009 03 - 0028 - 09 辉光放电质谱分析技术的应用进展 余 　兴 ,李小佳 ,王海舟 (钢铁研究总院 , 北京 　100081) ( ) 摘 　要 :简单介绍了辉光放电质谱 GDM S 的基本原理 。对辉光放电质谱在块状金属 、半导 体 、非导体 、溶液 、气体和深度分析方面的应用进行了综述 。块状金属和半导体的痕量元素分 析为 GDM S 主要的应用 ,它们的研究报道众多 ;对非导体材料的分析扩宽了 GDM S 的应用范 围; 同时尝试采用 GDM S 对溶液和气体样品进行分析 ; GDM S 作为一种重要的深度分析方法 , 相关的应用迅速增加 。最后展望了辉光放电质谱的发展趋势 。 关键词 :辉光放电质谱 ;应用 ;进展 中图分类号 :O65763 　　　　文献标识码 :A ( 　　辉光放 电质谱 glow di schar ge ma ss sp ec 场的作用下加速移向阴极 。阴极样品的原子在氩 ) t ro met ry , GDM S 作为 目前对固体材料直接进行 离子的撞击下 , 以5 ～ 15 eV 的能量从阴极样品 [ 1 - 2 ] ( ) [ 15 ] 痕量及超痕量元素分析最有效的手段之一 , 上被剥离下来 阴极溅射 ,进入等到离子体 , 近 20 多年来得到快速发展 。GDM S 具有优越的 在等离子体中与等离子体中的电子或亚稳态的 [3 - 4 ] ( ) 检测限和宽动态线性范围的优点 ,而且样品 A r 原子碰撞 Penning 电离 ,变成正离子 : M + 制备简单 、元素间灵敏度差异小 、基体效应低[ 5 ] 。 e - →M + + 2 e - ,M + A r →M + + A r + e - 。 自V G Isotop e s 公司在上世纪八十年代推出了其 已经证实在 GD 源中 Penning 离子化是居于主导 V G 9000 型辉光放电质谱分析仪以来[ 6 ] ,大大促 地位的电离过程[ 16 ] 。正离子通过离子源上的一 进了该 技 术 迅 速 发 展 , 相 关 的报 道 倍 增[7 ] 。 个小出口进入离子光学系统中进行聚焦 ,然后进 GDM S 以其优越的分析性能在 电子学 、化学 、冶 入质量分析器按离子具有不同的质荷 比进行分 金 、地质以及材料科学等领域里得到广泛应用 ,在 离 ,最后由离子检测器进行检测 。 高纯金属和半导体材料分析中已经显示出它的优 越性[ 8 - 14 ] ,对它在绝缘体 、粉末 、液体 、有机物和 生物材料分析以及负离子测定中的应用也在积极 进行研究和完善 ,发展