高纯硅中痕量元素分析方法研究进展 - 材料与测试网.pdf

高纯硅中痕量元素分析方法研究进展 ， １２ １ １ ２ 刘 洁 ，钱 荣 ，卓尚军 ，何品刚 　 　 （ 中国科学院上海硅酸盐研究所 上海质谱中心，上海 ； 华东师范大学 化学系，上海 ） １． ２０００５０ ２． ２０００６２ 　 摘 要：综述了从 １９８０－２０１２年间测定高纯硅中痕量元素分析方法的研究进展。高纯硅中痕 　 量元素的主要分析方法包括红外光谱法、原子发射光谱法、原子吸收光谱法、 射线荧光光谱法、极 Ｘ 谱法、离子探针与离子色谱法、二次离子质谱法、辉光放电质谱法、电感耦合等离子体质谱法等；并 对高纯硅中痕量元素的分析方法进行了展望（引用文献 篇）。 ５９ 关键词：高纯硅；痕量元素；综述 中图分类号： 文献标志码： 文章编号： （ ） Ｏ６５７．３ Ａ １００１４０２０２０１３０１０１２１０７ 　　　 　　　 犘狉狅狉犲狊狊狅犳犚犲狊犲犪狉犮犺犲狊狅犳犕犲狋犺狅犱狊犳狅狉犇犲狋犲狉犿犻狀犪狋犻狅狀狅犳犜狉犪犮犲 犵 犈犾犲犿犲狀狋狊犻狀犎犻犺犘狌狉犻狋犛犻犾犻犮狅狀 犵 狔 ， １２ １ １ ２ ， ， ， 犔犐犝犑犻犲 犐犃犖犚狅狀 犣犎犝犗犛犺犪狀狌狀 犎犈犘犻狀犪狀 犙 犵 犵犼 犵 犵 （ ， ， １．犛犺犪狀犺犪犻犕犪狊狊犛犲犮狋狉狅犿犲狋狉犆犲狀狋犲狉 犛犺犪狀犺犪犻犐狀狊狋犻狋狌狋犲狅 犆犲狉犪犿犻犮狊犆犺犻狀犲狊犲犃犮犪犱犲犿 狅 犵 狆 狔 犵 犳 狔 犳 ， ， ； 犛犮犻犲狀犮犲狊犛犺犪狀犺犪犻２０００５０犆犺犻狀犪 犵 ， ， ， ） ２．犇犲犪狉狋犿犲狀狋狅 犆犺犲犿犻狊狋狉 犈犪狊狋犆犺犻狀犪犖狅狉犿犪犾犝狀犻狏犲狉狊犻狋 犛犺犪狀犺犪犻２０００６２犆犺犻狀犪 狆 犳 狔 狔 犵 ： ， ， 犃犫狊狋狉犪犮狋Ａｒｅｖｉｅｗｏｆｔｈｅｍｅｔｈｏｄｓｏｆｄｅｔｅｒｍｉｎａｔｉ