在多功能热镜的应用中二氧化钛薄膜的形成与表征.docVIP

在多功能熱鏡的應用中二氧化鈦薄膜的形成與表徵 P. Jin, L. Miao, S. Tanemura, G. Xu, M. Tazawa, K. YoshimuraMelek Applied Surface Science 212–213 (2003) 775–781 林建甫摘要： 　　所需的銳鈦型或金紅石晶相二氧化鈦（TiO2）的精確控制的過程參數下形成一個二氧化鈦指標的濺鍍鍍膜法。二氧化鈦作為一個錫基熱鏡的抗反射層的應用。熱鏡，光學計算和優化結構二氧化鈦（30納米）/天（30納米）/二氧化鈦（30納米）連續濺鍍沉積二氧化矽玻璃。用分光光度計在波長250-2500納米和1-25毫米，分別在波長的紅外光譜系統測量的透射/反射熱鏡的光學評價。此外，它預期能有更好的和多功能的性能大多通過精確控制作為光觸媒的二氧化鈦頂層的晶體結構2003年由ElElsevier科學 B.V.出版 簡介 　　二氧化鈦是一種優良的光催化材料在各種上，特別是在淨化環境，如空氣淨化、光觸媒殺菌、清潔與防霧的功用。二氧化鈦晶體大多是附屬在三個多晶型：金紅石、銳鈦礦、板鈦礦中，而最常用的二氧化鈦薄膜形成在銳鈦礦、金紅石結構上，因為光學性質不同，還有可能的催化性質。另一方面，在短波長中有高透光率，在長波長中有高反射率，把這兩種結合起來就是熱鏡，反映在一個溫暖的太陽熱能，並已開發，可防止在寒冷氣候下的室內溫度的熱量逸散。建造熱鏡通常是一層薄薄的貴金屬如金，銀，銅，鋁，或像金屬氮化物，如?氮化鈦 　　在這項研究在這項研究中，我們報告通過濺鍍鍍膜沉積參數的精確的過程控制，並進行調查，通過光學計算和實驗確認使用如二氧化鈦薄膜奧納錫熱鏡銳鈦型或金紅石型的單相，可使二氧化鈦薄膜的形成。 實驗 　　通過射頻磁控濺射 TiO2薄膜的形成和熱鏡結構。濺射系統連接到兩個2英吋的0.21立方米/秒的渦輪分子泵的圓柱形室((d=0.34公尺, V=0.047立方公尺)，磁控源，定位在30度傾角向上到可輪換基板。該室分散於2×106Pa時，純氬（99.9995％）被引入到所需的總壓力。氬氣（純度 99.99％）濺射於二氧化鈦上而形成一個二氧化鈦薄膜。在熱鏡（SiO2玻璃TiO2/TiN/TiO2）TiN薄膜沉積反射性的濺射於標靶鈦在Ar + N2。在總壓下氧氣添加劑與精確控制濺射參數，即獲得所需的銳鈦型或金紅石單相基底溫度。沉積條件列於表1。 膜的組成與盧瑟福散射光譜（RBS）測量。確定相的形成與薄膜的X射線衍射（XRD）。光譜透射/反射分光光度計（JASCO V -570）在波長250-2500納米，在波長上的FT - IR系統（頻譜 GX）1-25毫米，分別測量。 　　熱鏡的設計（TiO2 (d2)/TiN (d0)/TiO2(d1)在二氧化矽玻璃上）通過光學傳輸矩陣法計算，玻璃基板上的不一致，特別是考慮到基於多個領域的振幅反射的想法。計算二氧化鈦、錫和SiO2玻璃的光學常數（n和k）。將會獲得基礎光譜上（LUM）透過率，公式如下： 其中X代表的透光率，等於向光性視覺發光效率。選擇適當的錫厚度(D0=30納米)與最大的綜合透光率（Tlum），計算二氧化鈦薄膜的不同厚度和優化結構。優化結構所形成的濺射沉積和光學性質與光譜透射/反射測量評估。 結果與討論 結構： 　　基本上，只有氬能使該方法濺射二氧化鈦鏢靶陶瓷，選擇穩定的條件下，在TiO2薄膜沉積過程中取得計量。一般來說，濺射多個元素的某些元素，結果將會損失，特別是較輕的標靶。因此，盧瑟福散射光譜的分析來衡量的二氧化鈦薄膜的化學計量。Fig1.顯示無論是原始數據和模擬的RBS譜。之間的原始數據和模擬化學計量二氧化鈦有一個良好的對應關係，介紹二氧化鈦薄膜的可行性，說明取得計量的過程。　　 相的形成與基底溫度： 　　基底溫度的影響主要元素的原子在到達基材表面的流動性，因此是最有效和最便捷的方式來改變沉積過程中的晶相。Fig２.顯示X射線衍射模式的二氧化鈦薄膜沉積在Si與各種基板溫度在0.1Pa，從0加熱到600℃。沒有基板加熱，薄膜是無定形的。在100℃下，出現廣泛的高峰，對應較差的結晶結構金紅石。在200至500度C下，獲得銳鈦礦和金紅石的混合相的薄膜，和其相對的X射線衍射強度的變化與基底溫度。發現在300-400℃左右形成具有銳鈦礦顯性薄膜，並獲得一個金紅石單相在600℃。 相的形成與總壓力： 　　因為它表明，金紅石單相，可以很容易地形成較高的基底溫度（600℃），參數更改為單相銳鈦礦條件。Fig3.薄膜總在一個恆定的基底溫度325℃從銳鈦礦相對峰強度使用的基板溫度之間的主導下的各種壓力。銳鈦礦增加的相對強度與增加總壓力，才發現，壓力0.25和0.5帕之間，X射線衍射強度最高，最突出的銳鈦礦，可以採取適當的條件為