光电tft-lcd厂废弃物减量与资源化制成奈米孔洞材料.pdfVIP

工業污染防治 第 115 期(Sep. 2010) 145 光電TFT-LCD 廠廢棄物減量與資源化 製成奈米孔洞材料 林亮毅* 、白曛綾** 摘 要 在光電廠 TFT-LCD 製程的薄膜 (Thin Film)步驟中，使用了 NF3 、NH3 、SiH4 進行 CVD (Chemical Vapor Deposition)反應，其產生的大量廢棄粉末於袋式集塵器 被收集。粉末中因含有大量的氟，以往皆被視為對環境有危害的廢棄物，需額外花 費委託廠商處理。然而由於製程特性，廢棄粉末中除了氟化物外，尚含有相當可觀 的矽。因此，若能將光電廠廢棄粉末中的矽資源化，不僅可應用於奈米孔洞矽材的 合成，尚可解決光電廠大量廢棄粉末棄置問題，使得原本的廢棄物轉化為具有高經 濟價值的吸附材。本研究群證實可以 TFT-LCD 光電廠粉末廢棄物為起始材料，經 鹼融熔法將其萃取為矽酸鹽前驅物，並加以製備合成比表面積高達 1,000 m2/g 之中 孔洞奈米材料，其結構與市面上高價值之 MCM41 奈米材料相仿。 【關鍵字】廢棄物資源化、中孔洞奈米材料、氟化鈉、矽氟化物、鹼融熔法 *國立交通大學環境工程研究所 博士候選人 **國立交通大學環境工程研究所 教授 146 光電 TFT-LCD廠廢棄物減量與資源化製成奈米孔洞材料 一、前 言 隨著全球資源越來越有限，以及氣候變遷等問題日益彰顯，永續環境相關議 題越來越被重視。資源永續利用為世界潮流之一，推動廢棄物資源化以促進資源有 效再利用為產業永續發展的重要環節。行政院環境保護署於 2004 年提出「零廢棄」 政策，以資源管理角度及「資源價值遞減論」之概念，積極推動廢棄物資源化。根 據環保署統計 2007 年工業廢棄物產生量約 1,577.5 萬公噸，再利用量為 1,182.1 萬 公噸，再利用率達 75% 。 另一方面，對我國而言，高科技產業是我國的重要產業命脈，但是其所衍生 出的廢棄物問題一直困擾著高科技產業界。依據經濟部工業局工業廢棄物清除處理 與資源化輔導計畫調查，我國光電 TFT-LCD 製造業於 2007 年廢棄物總產生量為 140,280 公噸。在液晶面板製造業中，光電廠 TFT-LCD 製程的薄膜 (Thin Film)步驟 中，使用了 NF3 、NH3 、SiH4 進行 CVD (Chemical Vapor Deposition)反應，其產生 的大量廢棄粉末被袋式集塵器所收集。粉末中因含有大量的氟，以往皆被視為對環 境有危害的廢棄物，需額外花費委託廠商處理。然而由於製程特性，廢棄粉末中除 了氟化物外，尚含有相當可觀的矽；其中單僅一個 TFT-LCD 製程廠之 SiO2 粉末廢 棄物之每年產量就可達 180 公噸以上。 SiO2 廢棄物不僅在光電產業隨處可見，亦 為半導體產業與新興能源產業 (如太陽能產業) 中常見之廢棄物，由於 SiO2 粉末廢棄 物質輕難以運送處置，加上日益有限的廢棄處置場址與處置方法，使得此類廢棄物 問題日益彰顯。 因此，若能將光電廠廢棄粉末中的矽資源化，不僅可解決光電廠大量廢棄粉 末棄置問題，更可將原本的廢棄物轉化為具有經濟價值的產品。 二、TFT-LCD 製程與廢棄物產出及再利用現況 TFT-LCD 製造主要包括薄膜電晶體 (array) 、液晶灌注面板(cell) 及模組化 (module)等 3 個製程。薄膜電晶體為 TFT-LCD 之主要核心技術，array 製程與半導 體製程相似，但不同的是將薄膜電晶體製作於玻璃上，而非矽晶圓上，其原理係在 玻璃基板利用導電體塗佈、微影照相及曝光顯像等技術，製成電極基板，做為傳遞 工業污染防治 第 115 期(Sep. 2010) 147 訊號、電壓控制之元件。液晶灌注面板