电子束液态曝光技术研究论文.pdfVIP

2005年12月 第十三届全国电子束·离子束·光子束学术年会 湖南·长沙 电子束液态曝光技术研究术 孔祥东1张玉林2卢文娟2 (1．东营职业学院科研处．山东东营2571)91 2．山东大学控制科学与工程学院，山东济南250061) 摘要：了可用于微机电系统加工的细电子束液态曝光技术。对该工艺的曝光方式、真空度需求、抗 出了固化图片。 关键词：MEMS，电子柬，曝光，抗蚀剂 中图分类号：TN305·7文献标识码：A ElectroMechanical 自80年代末期开创了微机电系统(Micro Systems，MEMS)的研究以来111， MEMS已经成了世界的研发热点。为了能够充分发挥MEMS的强大功能，越来越多地需要各种形状的 精密三维微结构。在当前已经发展成熟的硅微细加工、光刻电铸加工、能束加工和特种精密加工等。微 and Harden Stereo Galv”ofomugAbformung)技术和IH(IntegratedPolymer Lithography)集成硬化 技术等。但体硅微加工技术难于加工高深宽比的微结构；LICA技术虽然能够制作高精度、高深宽比、 侧面陡直的微细结构131，却难于加工各种微曲面，斜面和高密度微尖阵列等微器件；IH工艺虽然从理 论上能加工出任意曲面和任意高深宽比的复杂微结构，但其分辨率目前仅为亚微米级㈣。因此这些微 三维加工技术不能很好地适应将来MEMS的高速发展，需要寻求更好的加工手段。 电子束曝光技术是目前公认的最好的高分辨率吲形制作技术，在宴验室条件下，已能将电子束聚焦 成尺寸小于2nm的束斑9一并实现了纳米级曝光。泼‘『：艺口前主要用于二维精密掩模的超微细加工M， 难于生产高深宽比的三维微结构。电子束曝光j‘彳j-束斑小、精度高等优点。如果能将电子束曝光的高 精度性能和IH工艺能加工任意复杂器件的性能结合起来，再辅以uCA工艺的微电铸等工序，则必定 可批量生产出具有高精度、高深宽比和任意复杂曲面的三维微结构。基于上述思想，本文提出了国内 外均未见报道的电子束液态曝光技术(Electron—Beam Liquid 了深入研究。 1电子束液态曝光技术 电子束液态曝光技术嗍是在IH技术和电子束曝光技术的基础上提出的，其工艺设备装置如图l ’国家自然科学基金重大研究计划资助项目，山东省自然科学基金资助项目(Y2003c03) 山东省科技攻美计划基金资助项目(022090105)． 作者简介：孔祥东(1966-)．男，博士，高级工程师，主要从事电子束曝光技术、MEMS加工技术的研究，已发表相关论文8篇，EI收录5 篇。Email：Blkxd@adu．edu,en 一74—． 2005年12月 第十三届全圈电子束·毒子束·光子柬学求年套 湖南·长沙 所示。工作原理如下： 在计算机控制下，固定在Z台上的基板，上升到 液态抗蚀剂的上表面，使基板上布满一个分层厚度的 抗蚀剂；聚焦后的电子束入射到抗蚀剂表面，按照该 层图形进行扫描曝光。将抗蚀剂固化形成两维图形 (即片状单元)；然后Z工作台轻轻下移一个分层厚 度，刚刚固化的抗蚀剂上又布满了液态抗蚀剂，重复 该作图过程直到最终形成三维聚合物结构。 由于电子束可以使所有的光致抗蚀剂曝光，所以 仍使用光致抗蚀荆。 图l EBLL工艺设备原理图 2EBLL曝光方式研究 用电子束对液态抗蚀剂曝光，主要有两种方式：其一是将细电子束从真空中引出到大气中对抗蚀 荆曝光，其原理类似于电子束脱硫技术；其二是将抗蚀荆移放到曝光机内部的真空环境中进行曝光： 第一种方式的难点主要是如何将电子束从真空中等效地引出。电子束的引出首先应考虑电子束 引出窗的材料和厚度问题。这个问题前人已经解决，一般选用1．5微米_厚