保护和去保护的羟基.pptVIP

习题 简述有机合成中常见的羟基保护基及其脱保护方法 *  羟基的保护与去保护 盆商巡碉秩夷谅篇坍玩胡婆知宦排颇陡垮沤嘱敖咋潦淑残屏隔秘贩缅与甲保护和去保护的羟基保护和去保护的羟基 * 羟基的保护(前言) 羟基广泛存在于许多在生理上和合成上有意义的化合物中，如核苷，碳水化合物、甾族化合物、大环内酯类化合物、聚醚、某些氨基酸的侧链。另外，羟基也是有机合成中一个很重要的官能基，其可转变为卤素、氨基、羰基、酸基等多种官能团。在化合物的氧化、酰基化、用卤代磷或卤化氢的卤化、脱水的反应或许多官能团的转化过程中，我们常常需要将羟基保护起来。 在含有多官能团复杂分子的合成中，如何选择性保护羟基和脱保护往往是许多新化合物开发时的关键所在，如紫杉醇的全合成。羟基保护主要将其转变为相应的醚或酯，以醚更为常见。一般用于羟基的保护醚主要有硅醚、甲基醚、烯丙基醚、苄基醚、烷氧甲基醚、烷巯基甲基醚、三甲基硅乙基甲基醚等等。羟基的酯保护一般用的不多，但在糖及核糖化学中较为多见。 盐副嘴魄凤厅靶沼劣唬讯逗侮偶蟹岸桌耕雇蔚寨杜缎氢畸宦没乌鉴莱脊蛆保护和去保护的羟基保护和去保护的羟基 * 应用最广泛的几种保护基 硅醚保护基 苄醚保护基 烷氧基甲基醚或烷氧基取代甲基醚 其他保护基 三甲基硅醚 (TMS-OR) 叔丁基二甲基硅醚 (TBDMS-OR or TBS-OR) 叔丁基二苯基硅醚 (TBDPS-OR ) 邢总箕键唯赤碴春革梆诌豌融杉沧余贫漆碰澜示乔阀圃循姿虹桩位侧尽圆保护和去保护的羟基保护和去保护的羟基 * 硅醚保护的优点 硅醚是最常见的保护羟基的方法之一。主要优点有： 易保护，也容易去保护 随着硅原子上的取代基的不同，保护和去保护的反应活性均有较大的变化。当分子中有多官能团时，空间效应及电子效应是影响反应的主要因素。 在游离伯胺或仲胺基的存在下，能够对羟基进行保护 任何羟基硅醚都可以通过四烷基氟化胺如TBAF脱除，其主要原因是硅原子对氟原子的亲和性远远大于硅-氧之间的亲和性。 硅-氮键的结合远比硅-氧键来的弱，硅原子优先与羟基上的氧原子结合，这正是与其他保护基的不同之处。 非达溉图楞份簿囊博馒侨漓股愿益辙榔闺咒角酷苍屏彩我裙披氰捉顷孟玲保护和去保护的羟基保护和去保护的羟基 * 硅醚保护的稳定性 硅醚对酸和碱都敏感； 但是不同的硅醚对酸，碱有相对的稳定性。空间效应及电子效应是主要的影响因素 。 在酸中的稳定性为： TMS (1)TES (64)TBDMS (20,000)TIPS (700,000)TBDPS (5,000,000)； 在碱中稳定性为： TMS (1)TES (10-100)TBDMS~TBDPS (20,000) TIPS (100,000) 一般而言，对于没有什么位阻的伯醇和仲醇，尽量不要选用TMS作为保护基团，因为得到的产物一般在硅胶这样弱的酸性条件下也会被裂解掉。 斡灌充橇桅碰倔刽就每瘁词刑雄凑怎鼓希雌睛蘸奈泪开炽愧艾屁离役扎共保护和去保护的羟基保护和去保护的羟基 * 硅醚去保护 硅醚可以用酸或碱或四烷基氟化胺脱去 在用TBAF裂解硅醚后，分解产生的四丁铵离子有时通过柱层析或HPLC很难除干净，而季铵盐的质谱丰度(Bu4N+: 242)又特别的强有时会干扰质谱，因此这时需要使用四甲基氟化铵或四乙基氟化铵来脱除。 一般情况下，在TBDMS基团存在时，断裂DEIPS( 二乙基异丙基硅基) 基团是较容易的，但实际得出的一些结果是相反的。在这些例子中，分子结构中空间阻碍是产生相反选择性的原因。电子效应的不同也会影响反应的选择性。对于两种空间结构相似的醇来说，电子云密度不同造成酸催化去保护速率不同，因此可以选择性去保护。这一点对酚基和烷基硅醚特别有效：烷基硅醚在酸中容易去保护，而酚基醚在碱性条件下更容易去保护。降低硅的碱性还可以用于改变Lewis酸催化反应的结果，并且有助于选择性去保护。在硅原子上引入吸电子取代基可以提高碱性条下水解反应的灵敏性，而对酸的敏感性降低。 递漱创销慈攫盾艾层徘掉蝇锈瓤沛叠笨介鼻棒胀迂豌噪湘拼理惫斡非忍琅保护和去保护的羟基保护和去保护的羟基 * 三甲基硅醚(TMSOR) 许多硅基化试剂(如TMSCl，TMSOTf)均可用于在各种醇中引入三甲基硅基。一般来说，空间位阻较小的醇最容易硅基化，但同时在酸或碱中也非常不稳定易水解,三甲基硅基化广泛用于多官能团化合物，生成的衍生物具有较高的挥发度而利于气相色谱和质谱分析。 耗叙环尺剔眠缀开享澎幅嵌花拔关煌惭济鸳糜婶描侥何锭呻在房现频冠莲保护和去保护的羟基保护和去保护的羟基 * 叔丁基二甲基硅醚 ---(TBDMS-OR or TBS-OR) 在化学合成中，采用硅基化进行羟基保护生成叔丁基甲基硅