薄膜晶体管中绝缘层的研究现状与趋势.PDFVIP

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2017-07-11 发布于四川
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薄膜晶体管中绝缘层的研究现状与趋势

第卷第期液晶与显示３１　４　　 Vol．３１　No．４　　　　　　　　　　　ChineseJournalofLiuidCrstalsandDislas 年月 q y p y ２０１６４　　　 A r．２０１６ p 文章编号: ( ) １００７Ｇ２７８０２０１６０４Ｇ０３８０Ｇ０６薄膜晶体管中绝缘层的研究现状与趋势 ∗ , , , , , , 王东平谢应涛欧阳世宏朱大龙许鑫谭特方汉铿 ( , ) 上海交通大学电子工程系TFTＧLCD关键材料及技术国家工程实验室上海２００２４０ : , , 摘要本文主要介绍了绝缘层在薄膜晶体管中的重要作用总结了在薄膜晶体管中应用的绝缘层材料种类及其特点介 , . , , 绍了不同绝缘层的制备工艺以及各种制备工艺的原理与特点最后通过分析近几年有关薄膜晶体管绝缘层的文献 , 介绍了薄膜晶体管在制备过程中遇到的主要问题及当前的研究热点并对未来薄膜晶体管中绝缘层的制备工艺和绝缘材料的研究方向进行了展望. : ; ; ; 关键词薄膜晶体管溶胶凝胶法紫外光退火低温工艺　　中图分类号: 文献标识码: : / TN３２１．５　　 A　　doi１０．３７８８YJYX０３８０ Researchstatusandtrendsofinsulatin laerin g y thinＧfilmtransistor , , , , WANGDonＧin XIEYinＧtao OUYANGShiＧhon ZHUDaＧlon gp g g g g , , XUXin TANTe FONGHonＧhang ( NationalEnineerin Lab orTFTＧLCDKeMaterialsandTechnoloies g g f y g