热处理对sio 2 薄膜折射率和吸收特性的影响分析 - 红外与激光工程.pdf

第 卷第 期 年 月 43 10 红外与激光工程 2014 10 Vol.43 No.10 Infrared and Laser Engineering Oct.2014 热处理对 SiO2 薄膜折射率和吸收特性的影响分析 姜 玉刚 1,2 ，王利栓 2 ，刘华松 2 ，刘丹丹 2 ，姜承 慧 2 ，羊亚平 1 ，季一 勤 2 ( 1. 同济大学 物理科 学与工程 学院 先进微 结构材料教 育部 重点 实验 室 ，上 海 200092 ； 2 . 天津市薄膜光 学重点 实验 室 天津津航技 术物理研 究所 ，天津 300192) 摘 要： 采 用 离子束溅射技 术 ，在 熔 融石英基底 上 制备 了 SiO2 薄膜 ，并通过 椭偏 光谱 法和表 面热透 镜技 术研 究 了热处理对其光 学特性 的影响 。 热处理对 离子束溅射 SiO2 薄膜折射 率影响较 大 ，随着热 处理 温度增加 ，SiO2 薄膜折射 率先减 小后 增 大 ，当热处理 温度 为 550 ℃ 时 ，折射 率达到最 小。 经过 热处 理后 ，SiO2 薄膜 的弱吸收均得 到 了降低 ，在 2 ppm ( 1 ppm= 10-6) 左右 ，当热处理 温度 为 550 ℃ 时 ，获得 的 SiO2 薄膜 弱吸收最 小仅 为 1.1 ppm 。 实验 结果表 明 ：采 用合 适 的热处理 温度 ，能大大改善 离子束溅射 SiO2 薄膜 的折射 率和吸收特性 。 关键词： SiO2 薄膜 ； 光 学特性 ； 热处理 ； 折射 率 ； 弱吸收 中图分类号： TB34 ； O434 文献标志码： A 文章编号： 1007-2276(2014) 10-3334-04 Analysis on effects of thermal treatment on refractive index and absorption properties of SiO2 film 1,2 2 2 2 2 1 2 Jiang Yugang , Wang Lishuan , Liu Huasong , Liu Dandan , Jiang Chenghui , Yang Yaping , Ji Yiqin ( 1. Key Laboratory of Advanced Micro鄄structure Materials, Ministry of Education , School of Physics Science and Engineening , Tongj i University , Shanghai 200092 , China ; (2 . Tianj in Key Laboratory of Optical Thin Film , Tian