13 矽酸胶(sio2).pdf

南 台 科 技 大 學 化學工程學 系 碩 士 論 文 奈米級矽酸膠顆粒成長、改質及 其應用 Particle growth and modification of nano-grade colloidal silica and its application 研 究 生 ：黃柏源 指 導 教 授 ：蔡明雄 中 華 民 國 九 十 三 年 六 月 中文摘要 本研究係以水玻璃經過離子交換 ，再經由成核與成長控制來製備奈米級矽酸 膠顆粒 。文中探討固定體積製程 、固定濃度製程與不同晶種濃度對矽酸膠表面成 長之影響 ，不同晶種濃度添加矽酸對顆粒粒徑之影響 ，並以不同量的鈰鹽添加於 矽酸中來改質矽酸膠顆粒表面 ，本論文進一步探討改質矽酸膠對晶圓研磨磨除率 之影響 。 研究結果發現 ，在添加矽酸使顆粒形成表面成長時 ，固定體積製程比固定濃 度製程對顆粒的成長明顯 ；晶種量較少時會有均質成核產生因此顆粒數目會增 加 ，隨著晶種量增加時會有均質成核與表面成長同時發生 ，而在達到適當的晶種 量時則只存在表面成長 ，而當晶種量再增多時 ，則矽酸膠會凝聚 ；表面成長期間 添加 KOH 可以增加表面成長 ；添加鈰鹽異質成長的顆粒粒徑與數目會比較接近顆 粒預估成長之粒徑與數目 。 在研磨部分 ，固定研磨時間 、改變下壓力與相對旋轉速度 ，未添加鈰鹽的矽 酸膠磨除率為 287(Å/min) ，添加鈰鹽表面改質矽酸膠的磨除率為 550.8(Å/min) ，可 得知表面改質可獲得到較高的的磨除率 ，而且有符合 Preston Equation 的經驗式 。 I Abstract The colloidal silica was formed through the process of ion-exchange and then controlling homogenous nucleation and surface growth. Two experimental methods had been done, one was constant volume process and another was constant concentration process. The effects of the formation procedure, seed concentration, and the amount of additive to the surface growth had been studied in this article. During the surface growing, the cerium ion was added with active silica acid for further modifing the surface of colloidal silica. The polishing performance of modified colloidal silica and had been tested by coating SiO film on the 2 cm x 2 cm silicon wafer. 2 According to the experimental results, we found that the method of constant volume process leads to the particle growth