立方氮化硼薄膜沉积过程的相变研究!-物理学报.PDF

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 0% % #$$ % ， ， ， 6Q= ,0% )Q ,% ZD3@ #$$ （ ） !$$$+:#V$W#$$W0% $% W:’!5+!$ JNXJ LYTHONJ HO)ONJ !#$$ N-23 , L-[K , HQ* , $$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$$ 立方氮化硼薄膜沉积过程的相变研究! ） ） ） ） ） ） ! ! # ! ! # 陈 浩 邓金祥 刘钧锴 周 涛 张 岩 陈光华 !）（北京工业大学应用数理学院，北京 !$$$## ） # ）（北京工业大学材料学院，北京 !$$$## ） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） #$$% #$$ ! #’ 从能量和结构两个角度分析了 四种相的转变过程，以及杂质和缺陷对立方氮化硼（ ）薄膜制备的影响 () *+() , 研究了从六角氮化硼（ ）到 转变的一个可能的过程，即 菱形氮化硼（ ） 过程 对纯的 -+() *+() -+() .+() *+() , -+() 到 的转变需要克服一个很高的能量势垒，在实验室条件下很难能够提供能量来越过这个势垒 而从 到 .+() , .+() *+ () 的转变只需要克服一个很低的能量势垒 这个能量势垒要低于从 到纤锌矿氮化硼（ ）转变所需要克服 , -+() /+() 的能量势垒, *+() 薄膜的制备过程中，薄膜在高能粒子轰击下，会产生大量的缺陷，这些缺陷对立方相的形成起到 了重要的作用，缺陷和杂质的存在大大降低了从 到 转变的能量势垒 根据这个理论模型，在两步法制备 -+() .+() , 薄膜的基础上，调整实验参数，形成三步法制备高质量 薄膜 主要研究了三步法中第一步的时间和衬底 *+() *+() , 负偏压对*+() 薄膜制备的影响，找到合适的沉积时间和衬底负偏压分别为0 123 和4 !5$ 6 , 采用三步法制备薄膜， 可以重复得到高立方相体积