PECVD镀膜作业指导书.DOC

PECVD镀膜作业指导书 奋斗 文件名称： PECVD镀膜作业指导书 版本：A 文件编号： 修订： 文件类型：工作文件 撰写人：第二组 共6页 目的： 1、在硅片表面沉积一层氮化硅薄膜，减少太阳光的反射 2、钝化硅片表面 适用范围：电池车间PECVD工序 职责： 1、操作员负责依照作业指导书要求，按标准进行生产作业，掌握正确的操作方法，确保人身安全、操作安全。 2、在操作过程中遇到工艺或设备问题应及时向工艺员或设备人员反映，相关人员及时提供帮助，解决问题。 主要原材料及半成品 材料 硅烷 氨气 氮气 氩气 去PSG后的硅片 要求 6N以上 5N以上 5N以上 5N以上 符合清洗工艺、质量要求 主要仪器设备及工具 等离子增强化学气相沉积（PECVD）设备、特殊气体供气系统、石墨舟（125型、156型）、石英吸笔、取舟吊钩、万用表、椭偏仪 工艺技术要求 1、镀膜的厚度：单晶为75nm±5nm，多晶为80nm±5nm，颜色为蓝色。 2、镀膜的均匀性要求应为片内≦±5％，片间≦±6％，批间≦±7％（膜厚1um内）。 3、氮化硅薄膜的折射率控制在2.0~2.3之间。 4、镀膜后的硅片无裂痕、崩边、缺角。 5、镀膜后不能出现由于短路引起的花纹片。 七、操作规程 1、准备工作： 检查设备所需的水、电、气是否准备完毕。 开机： （1）确认水、电、气准备完毕后，由工序长开启电控柜内设备的总电源、开启设备开关电源，进入计算机系统，开启真空泵，开启加热。 （2）选定工艺文件，根据“光伏电池工艺参数表单”设定工艺参数。在正常运作下，实行自动循环。 3、接收硅片： 清洗送来的硅片由指定人员收取；收片人员在收片时首先应检查硅片的数量与流程卡上锁标明的数量是否吻合；其次检查硅片是否有破损、缺角、崩边等缺陷，是否有绒面不良硅片。发现来片有破损时应及时做好记录，并将其分类放入指定盒子里，统一处理。如有绒面不良的硅片，需将硅片返回清洗工序重新制绒。 4、装片： （1）装片时，插片员应戴乳胶指套和口罩。操作员使用石英吸笔将硅片一片一片依次插入石墨舟内，注意正面在两个电极之间。石英吸笔的吸力大小通过调节阀来调节，只要吸笔能够吸住硅片即可。取片时，花篮大开口朝向自己，此面为硅片正面，吸片位置为片子的中间偏右方。 （2）插片时，先将硅片竖直放入舟内，硅片接触卡点1、2后，向卡点3方向偏移5°左右，直至硅片完全卡到工艺卡点上方为插片完成，如图 （3）插片员用石英吸笔将放入石墨舟中的硅片的位置进行校正，进一步固定好硅片。对插好的硅片进行检查。 （4）上舟员用取舟吊钩将石墨舟吊放在管式PECVD的机械手上，注意要轻抬轻放。 5、镀膜 运行自动程序 自动循环程序如下：开始→充氮→取片→装载→送片→慢抽→主抽→恒温→恒压→预放电→淀积→抽空→充氮→抽空→充氮→抽空→充氮→抽空→结束。 在放电过程中，需认真观察辉光放点情况，如放电情况不正常，则需及时转到抽空步骤，并将舟取出，对没有装好的硅片重新定位。 沉积完毕后，石墨舟自动退出。 用取舟吊钩将石墨舟从管式PECVD的机械臂上取下，并放上另一个装好硅片的石墨舟，以此往复，实现连续生产。 取片 取片员使用石英吸笔将硅片从石墨舟中取出，放入丝网印刷的花篮内。 自检 检查硅片是否有缺角、崩边，对于缺角、崩边的硅片不得流入后续工序，应按规定分类，集中放置，统一印刷生产。 每批抽测5片，检查硅片膜厚和折射率。检查硅片的膜厚，由管式PECVD镀膜硅片的膜厚检查采用目测方式，目测颜色为蓝色，所有外观颜色正常或目测出膜厚有少许偏薄及少许偏厚的硅片都属合格，均可流入后续工序；对于外观颜色偏差严重、线痕、白斑、跳色、局部有花纹、或局部未镀上膜的硅片应予以分别统计并暂留，待重洗后返工生产。 检查硅片背面是否存在由于沉积时局部短路而镀上的氮化硅膜。对于硅片背面沉积上少量氮化硅膜的硅片（面积小于100mm2），按正常硅片往下流，若背面沉积面积超标，则需隔离，待重洗后返工生产。 7、关机程序 （1）关闭加热 （2）将反应室抽成真空 （3）关闭慢抽和主抽 （4）关闭真空泵 （5）退出系统 （6）关闭设备控制电源 工艺卫生要求： 操作人员发现碎片要及时放到碎片盒内 发现上下片区域有灰尘要及时清理 石墨舟预处理须用的假片若已经损坏或弯曲严重已经不能使用的，须及时更换，以免造成高频报警 发现设备异常应立即停止运行，报告设备人员 操作所需物品按规定摆放，不可随意乱丢 定期打扫上下料台卫生 下片吸笔要定期用酒精擦拭，时刻保证吸笔头干净 九、注意事项： 1、管式PECVD镀膜后舟与机械臂为高温，不可徒手接触。必须戴好高温手套。