溅射方法干式处理超导加速腔表面的研究与分析!方案.PDFVIP

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第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 0$ ##( , , , RS6 *0$ QS * T;GU94UV ##( ( ) ###21(#L##(L0$ # L#$%)2#) M,NM -DOHP,M HPQP,M ###( ,85 * -8VW * HSB * 溅射方法干式处理超导加速腔表面的研究与分析! ! 朱 凤 焦 飞 全胜文 郝建奎 赵 夔 (北京大学核物理与核技术国家重点实验室,重离子物理研究所,北京 ##$%) ( 年 月 日收到; 年 月 日收到修改稿) ##$ ’ ( ##$ ) ’ 详细研究了利用超高真空氩离子清洗技术发展的一种超导铌腔表面的“干式”处理方法,从微观和宏观角度分 析了溅射处理对铌的表面特性和对超导腔性能的影响 与传统的“湿式”处理方法(化学抛光 和电抛光 )相 * +,- .- 比,干式处理方法具有结构简单、容易控制、没有污染等优点,是一种很有潜力的超导腔处理方法,可以提高超导腔 的性能* 关键词:超导加速腔,溅射,形貌分析,残留电阻比/// : , , !## (0 %’## $)# 极和阳极,超导腔为阴极,接负高压,阳极接地、氩离 C 引 言 子的辉光放电形成等离子体,在一定放电电流和放 电气压下,氩离子以较高的能量对铌表面进行撞击、 射频超导腔技术已成为目前加速器研究前沿领 溅射,把超导腔表面的突起、毛刺很快地溅射抛光, 域的首选技术 超导腔的表面状况直接影响到超导 * 起到很好的表面抛光处理的作用* 我们采用结构比 腔的低温性能 目前国际上常用的超导腔表面处理 * 较简单的直流二极溅射,主要参数包括溅射气压、放 方法有高压水冲洗( ),化学抛光( ),电抛光 D-/ +,- 电电流和放电电压等,比较容易控制* ( ),高温热处理等 其中 和 均采用腐蚀性 .- * +,- .- 图 为我们采用的北京大学超高真空直流二极 很强的浓酸,带来工作安全和环境污染的问题,残余 溅射装置,整个系统包括超高真空溅射室、真空系 在超导腔表面的酸液则容易造成超导腔品质因数的 统、溅射电源、进气控制系统(氩气、氮气)等,溅射室 降低 与 相比,抛光效果更好,表面粗糙度减 * .- +,- 的本底真空可以达到低于# I ) -4 * 铌样品和超导腔 小,超导腔的性能更优越 但是, 具有装置复杂、 * .- 的溅射处理就是在此装置中进行的* 造价高、危险性大、耗时长等更多缺点 因此,国际上 *

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