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氧化硅阻隔膜的制备及对水蒸气的阻隔特性研究王正铎
PACKAG ING EN GI NEERING Vol.25 No.5 2004
氧化硅阻隔膜的制备及对水蒸气的阻隔特性研究
王正铎, 张跃飞, 葛袁静, 张广秋
(, 102600)
[] 利用强流电子束蒸发技术在厚度为 12μm 的 PET 基材上制 了阻隔性能优良的高阻隔
SiOx 薄膜。所制 的SiOx 薄膜无色透明, 与基材附着牢固;PET 基材上的SiOx 薄膜厚度不同, 对水
蒸气的阻隔性能不同。膜厚为340 ～3200nm 时, 阻隔性能可提高 1 ～32 倍。 通过控制真空度和蒸发
速率等参数可以控制SiOx 薄膜的有关性能。
:氧化硅;阻隔膜;包装;电子束蒸发
+
:T Q 337 .1;T B4 89 :B :100 1-3563(2004)05-0156-03
Preparation of SiOx Film and its Barrier Performance to Steam
WAN G Zheng -d uo, ZHAN G Y ue-f ei, GE Y uan -j ing , ZH AN G Guang -qiu
(Beijing I nstitute of G aphic Communicatio n, Beijing 102600, China)
Abstract:A film of SiOx with good ba ie pe fo mance was p epa ed on 12μm PET subst ate by
means of elect on beam vapo ation technique.T he film is colo less and adhe es fi mly.T he steam ba ie
p ope ty was imp oved 1～32 times while the thickness of the film was 340 ～3200nm.I t is possible to con-
t ol the co nce ned pe fo mances of SiOx film by adj usting the pa amete s of vacuum deg ee and ev apo ation
speed, etc.
Key words:SiOx;Ba ie film;P ackag ing;Elect o n beam evapo ation
, [1,5-6]。, (EBV D)
6%。, PET SiOx ,
、、、、 SiOx 。
。, 、 。
[1-4]
、 。
、, 1
。
, 、 1.1
[3,5]
、、 ,
。, , ,
, , 、
, , ;
。
, 80
SiOx、T iO 、Al O ,
2 2 3
1
。 , 、
Fig.1 Sketch diag am of EBV D device
,
, 。,
:2004-06-28;:2004-07-08
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