梯度磁场中薄膜厚度梯度的形成机理 - 浙江大学学报.PDF

浙 江 大 学 学 报 理学版 第 卷第 期 ’ ?@AB!C@B# ! # 年 月 ()*+,-.)/01234-,56,472+849:;42,2=494),’ DEAB!$$! !$$! % 梯度磁场中薄膜厚度梯度的形成机理 朱 炎 狄国庆 陈亚杰 赵登涛 F F F 苏州大学 物理系 江苏 苏州 F !GH$$I’ 摘 要 借助于基片下方放置的磁铁 在溅射的放电空间中引入了纵向的梯度磁场 辉光放电时 其外貌 J F B F 发生了显著的收缩 由此沉积的薄膜在平面内存在明显的厚度梯度 用磁场中带电粒子的运动理论解释 F B 了此种薄膜的形成机制B 关 键 词 磁场梯度 磁镜 磁控溅射 辉光 厚度梯度 J N N N N 中图分类号J #L# 文献标识码J 文章编号JG$$LM#%!$$!’$#MQHM$H O P F K F K F K F F RST UVW XYZE@[\W] ^S_C UV‘\a RSPO XaW]bV@ cdefghidjhklmnopqrp stunktvjqwdgpqho !GH$$IF ’ stunkt xnqjf { B y)+z-94),)/912/4.z 914|,2885+-42,9/)+/4.z82})84924,-5+-42,9z-5,294/42. D@E~WVA@ ! ’F!$$!F!#’JQH) Q Ra‘\VW]TW\#a~$\b%’\aW’a_(\b\@W J *+89+-9 P A@W]\bE(\WVA]~V(\aWb,V]Wab\’!\aA(-V$\Wb~@(E’a(\Wb@ba(\$’V~]a$.V’a/%.AV’\W]V B B .a~,VWaWb,V]WabEW(a~ba$E/$b~Vba 0a’@W!\]E~Vb\@W@!ba]A@- ’AaV~A%’@Wb~V’ba(\Wb\$’V$a PW B (V]~aVbb\’1Wa$$]~V(\aWb\Wba!\A, .AVWa-V$(aba’ba(/%,aV$E~\W]bab\’1Wa$$@!ba!\A, B 0aVEb@~$\Wba~.~aba($E’,a’VW\$, -\bba,@b\@Wba@~%@!’V~]a(.V~b\’Aa$\W,V]Wab!\aA( J N