硅基自由曲面光学微透镜阵列制作及光学性能研究 - 红外技术.pdfVIP

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第卷第期红外技术年月硅基自由曲面光学微透镜阵列制作及光学性能研究孙艳军冷雁冰陈哲董连和长春理工大学光电工程学院长春摘要针对自由曲面无固定解析式的特点根据感光材料的光化学作用原理以及曝光能量与曝光深度的制约关系提出采用变剂量曝光的光刻方法制作自由曲面光学微器件从光传播理论出发分析了曝光过程光刻胶中光能量分布规律和曝光深度随曝光能量的变化关系建立了光分布规律的数学模型并应用计算机软件对模型进行仿真结果表明光能量在胶膜内呈规律性分布在能量一定的情况下曝光深度随时间规律性增加并逐渐达到饱和同时应用长春理

第 34 卷 第 1 期 红 外 技 术 Vol.34 No.1 2012 年 1 月 Infrared Technology Jan. 2012 硅基自由曲面光学微透镜阵列制作及光学性能研究 孙艳军,冷雁冰,陈 哲,董连和 (

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