蚀刻技术和工艺分析...pptVIP

木巷电讯配件有限公司;蚀刻工艺及异常分析;蚀刻： 蚀刻是将材料利用化学反应或物理撞击 作用而去除的技术(也即利用合适的化学溶液 腐蚀去除材质上未被光阻覆盖（感光膜）的 部分，达到一定的雕刻深度）。?? ;特点： ★ 改变了机械加工金属零件方式； ★ 可对大到传统行业设备使用的大面积微孔滤网， 小到眼睛几乎很难以分辨的细微零件进行加工； ★ 生产过程无外力冲击、不变形、平整度好；生 产周期短、应变快、不需模具的设计、制造；产 品无毛刺、无凸起、两面一样光、一样平； ★ 按图红加工平面凹凸型的金属材料制品，如：文字、数字及复杂图型、图案。制造各种精密的，任意形状的通孔零件。;蚀刻的原理： 通常所指蚀刻也称光化学蚀刻（photochemical etching），指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区 域的保护摸去处，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶 解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。;蚀刻的作用： 　　最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版， 也广泛地被使用于减轻重量 (Weight Reduction) 仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工 件等之加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦 可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件 精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀 刻更是不可或缺的技术。 ;蚀刻分类： 蚀刻技术可以分为湿式蚀刻(wet etching)和 干式蚀刻(dry etching)两类。;干性蚀刻： 所谓干性蚀刻乃是利用化学品（通常是盐酸）与所欲蚀刻之薄膜起化学反应，产生气体或可溶性生成物，达到图案定义之目的。在干蚀刻技术中，一班多采用电浆蚀刻与活性离子蚀刻。而所谓干蚀刻，则是利用干蚀刻机台产生电浆，将所欲蚀刻之薄膜反映产生气体由PUMP抽走，达到图案定义之目的。; 湿性蚀刻： 最早的蚀刻技术是利用特定的溶液与薄膜间所进行的化学反应来去除薄膜未被光阻覆盖的部分，而达到蚀刻的目的，这种蚀刻方式也就是所谓的湿式蚀刻。因为湿式蚀刻是利用化学反应来进行薄膜的去除，而化学反应本身不具方向性，因此湿式蚀刻过程为等向性，一般而??此方式 不足以定义3微米以下的线宽 ，但对于3微米以上的线宽定义湿式蚀刻仍然为一可选择采用的技术。 ;;FeCl3：三氯化铁因其工艺稳定，操作方便，价格便宜，因此为广大蚀刻加工企事业单位所采用；主要在印制电路、电子和金属精饰等工业中被广泛采用，一般用来蚀刻铜、铜合金、不锈钢、铁、锌及铝等。 三氯化铁蚀刻液适用于网印抗蚀印料、液体感光胶、干膜、镀金蚀层的印制板的蚀刻（不适用于镍、锡、锡铅合金等抗蚀层） ★蚀刻液的浓度一般是以蚀刻时间和蚀刻质量来确定蚀刻液的再生与更新。;NaOH：是一种常见的重要强碱。固体又被称为烧碱、火碱、片碱、苛性钠等，是一种白色固体，有强烈的腐蚀性，在空气中易潮解，且与空气中CO2二氧化碳起反应（因此要密封存放）；除溶于水之外，氢氧化钠还易溶于乙醇、甘油；但不溶于乙醚、丙酮、液氨。其液体是一种无色，有涩味和滑腻感的液体。;蚀刻工艺流程;;涂膜;蚀刻过程中应注意的问题1. 减少侧蚀和突沿，提高蚀刻系数 侧蚀产生突沿。通常印制板在蚀刻液中的时间越长，侧蚀越严重。侧蚀严重影响印制导线的精度，严重侧蚀将使制作精细导线成为不可能。当侧蚀和突沿降低时，蚀刻系数就升高，高的蚀刻系数表示有保持细导线的能力，使蚀刻后的导线接近原图尺寸。电镀蚀刻抗蚀剂无论是锡－铅合金，锡，锡－镍合金或镍，突沿过度都会造成导线短路。因为突沿容易断裂下来，在导线的两点之间形成电的桥接。;影响侧蚀的因素很多，下面概述几点： 1)蚀刻方式：浸泡和鼓泡式蚀刻会造成较大的侧蚀，泼溅和喷淋式蚀刻侧蚀较小，尤以喷淋蚀刻效果最好。2)蚀刻液的种类：不同的蚀刻液化学组分不同，其蚀刻速率就不同，蚀刻系数也不同。例如：酸性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数通常为3，碱性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数可达到4。近来的研究表明，以硝酸为基础的蚀刻系统可以做到几乎没有侧蚀，达到蚀刻的线条侧壁接近垂直。这种蚀刻系统正有待于开发。3)蚀刻速率：蚀刻速率慢会造成严重侧蚀。蚀刻质量的提高与蚀刻速率的加快有很大关系。蚀刻速度越快，板子在蚀刻液中停留的时间越短，侧蚀量越小，蚀刻出的图形清晰整齐。4)蚀刻液的PH值：碱性蚀刻液的PH值较高时，侧蚀增大。峁见图10-3为了减少侧蚀，一般PH值应控制在8.5以下。5)蚀刻液的密度：碱性蚀刻液的密度太低会加重侧蚀，见图10-4，选用高铜浓度的蚀刻液对减少侧蚀是有利的.6)铜箔厚度：要达到最小侧蚀的细导线的蚀刻，最好采用(超)薄铜箔。而且线宽越细， 铜箔厚度应越薄。因为，铜箔越薄在蚀刻液中的时间越短，侧蚀量就越小。;2.