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红外30_m亚波长抗反射光栅的制作
23 1 Vol. 23, No. 1
2004 2 J. Infrar d Millim. Wav s F bruary , 2004
: 1001- 90 14( 2004) 01- 0006- 05
30m
1 1 1 1 2 1, 3
曹召良 , 卢振武 , 张 平 , 王淑荣 , 赵晶丽 , 李凤有
( 1. , 130022;
2. , 130022
3. , , , 30007 1)
: 利用严格耦合波理论设计出亚波长 反射光栅, 并通过等离子体辅助刻蚀制作出了立方状 反 光栅. 测量
结果发现该光栅具有良好的增透特性, 并且测得光栅参数和理论设计参数基本 一致, 表明等离子体辅助刻蚀是制
作深光栅的有效方法. 对实验结果进行了分析和讨论, 结果表明, 临界周期点随折射率的变化规律在亚波长 反射
光栅的制作中有重要的作用.
: 严格耦合波理论; 亚波长; 反射; 光栅
: T N214 : A
FABRICATION OF ANTIREFLECTIVE UBWAVELENGTH
GRATING AT INFRARED 30m REGION
1 1 1 1
CAO ZhaoLiang , LU Zh nWu , ZHANG Ping , WANG ShuRong ,
2 1, 3
ZHAO JingLi , LI F ngYou
( 1. Stat K y Laboratory of Appli d Optics, Changchun Institut of Opt ics, Fin M chanics and
Physics, Chin s Acad my of Sci nc s, Changchun 130022, China;
2. D partm nt of Opto l ctronic S nsors and Applicat ion, Changchun Institut of Optics, Fin
M chanics and Physics, Chin s Acad my of Sci nc s, Changchun, 130022, China
3. Th k y Laboratory of Opto l ctronic Information Sci nc and T chnology, Institut of
Mod rn Optics, Nankai Univ rsity, T ianjin 30007 1, China)
Abstract:Antir fl ctiv subwav l ngth grating w as d sign d by using rigorous coupl d w av approach( RCWA) . Th
squar pillar grating w as fabricat d by plasma assist d tching. T st ing r sults show that th grating has a v ry good an
tir fl ctiv charact ristic,
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