真空和物理汽相沉积.docVIP

真空与物理汽相沉积 一 PVD与真空： 1 大气PVD存在的问题 常温常压下，空气分子的密度为1.28×10-3g/cm3 ,每克气体分子含分子个数是2.08×1022个，气体分子间的距离是3.34×10-6mm，气体分子的空间密度为2.68×1016个/mm3,因而，空气中活性气体分子与膜层，膜料，蒸发器反应，空气分子进入膜层成为杂质。常压下气体分子密度太高，蒸发膜料大多因碰撞而无法直线到达被镀件。 2 真空PVD的优点 真空是压强小于101.325kpa（1个大气压）的气体状态。PVD需要的真空条件应能够保证，气体分子的平均自由程大于蒸发源到被镀件之间的距离，被镀膜层材料容易蒸发（高真空状态下，膜料蒸发温度大幅度下降），容易获得高纯膜膜层坚硬，成膜速度快。 三 真空与压强 真空是一种气体状态（并非一无所有），真空度是表征真空状态气体稀薄程度的物理量，真空度的计量采用与压强相同的方法和单位。应注意的是，低压强对应高真空度：高压强对应低真空。压强计量单位现已统一采用pa，1个标准大气压=760mmHg=1.0325×105pa。 在真空行业中，真空区域约划分为：粗（105-102pa）；低（102-10-1pa）；高（10-1-10-5pa）；超高（10-5-10-12pa）；极高（﹤10-12pa）五个 四 PVD所需要的真空度 PVD所需真空度的基本确定原则是“气体分子的平均