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第一组 主笔人:陈逸豪、王启佑 组员:陈弘根 1 实验目的 2 学习Fabry
第一組
主筆人:陳逸豪、王啟佑
組員:陳弘根
實驗目的
學習Fabry-Prot 干涉儀的操作及原理
觀察He-Ne Laser 頻寬
觀察都卜勒加寬效應
實驗內容
調整干涉儀共振腔兩平面,使兩者平行。
利用Fabry-Perot頻譜儀,找尋雷射的頻率分佈,求出雷射光束兩波長的頻率差及在一固定偏壓下的解析度(resolution)。
計算都卜勒加寬效應。
實驗器材
雷射光源
Optical isolator (光阻隔器)
Fabry-Perot 干涉儀
Ramp Generator
示波器
detector
匯聚透鏡
原理補充
平面反射鏡
原理:
雷射(LASER):雷射是由Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation五個英文字的字首組合命名的。它的意義為:著激發放射方式,使得光產生放大。因此雷射又稱為激光。
雷射組成的三個要素為:(1)活性介質(active medium)-具有居量反轉特性的介質。(2)幫泵能源(puming sources)-提供能量使得處於低能階的原子或分子被激發到高能階,以使原子數目分佈達到居量反轉。(3)光腔(optical resonator)-放射出來的光可重複來回地在活性介質內傳振燙,這種過程又可稱為光程反饋(optical feedback)。茲分別敘述如下。
活性介質:一般的材料都會吸收入射光波,使得光強度因而減弱,這種材料稱為被動材料(passive)。但有些材料若被適當的能源所激發後,就具有將入射光波放大的能力,所以稱為活性。雷射器件就是使用這種活性介質來產生雷射光。
雷射材料的種類很多,依照所使用的活性介質型式可分為:
氣體雷射:所使用的活性介質有He-Ne混合氣,氫離子,CO2-He-N2混合氣等
液體雷射:所使用的活性介質有染料RB(Rhodamine B),染料Rhodamine 6G,染料Arcidine red等。
固體雷射:所使用的活性介質有稀土族,紅寶石,石榴石晶體,玻璃等。
半導體雷射:所使用的活性判質有GaAs,InGaAsp,GaAlAs等。
一、三能階活性介質系統
如前面所銻述在二能階系統,不論何種幫泵能源,皆無法達到居量反轉,只有迂迴其他能階,才能成立,一般而言,分為三能階系統和四能階系統。首先討論三能階活性介質系統如下所述:
典型的三級系統,如圖3-29所示。紅寶石雷射就是這種系統。它是利用光學幫泵來實現粒子數反轉的。在1956年由Bloembergen所提出的。在熱平衡下,粒子數分佈依波茲曼定律,如圖3-26(a)所示。如果原子系統受到很強的激勵,如被Xe閃光燈照射,財處於基態E0的粒子受激吸收躍至E3能級,躍遷至E3的粒子可以多種途徑衰降到低能級去,其中以無輻射形式降至E2的可能性最大,即E3→ E2 的躍遷機率比其它過程的機率都大,如圖3-26(b)所示。如果泵浦強度只夠大,則可能產生粒子數反轉,如圖3-26(c)所示。為了容易地達到這種反轉,就必須有二個條件,一個就是E3→ E2的躍遷極快,另一個就是粒子處於E2 的壽命很長。這樣就有利於E2 粒子數的累積,因此E2 的能階稱為亞穩態(metastable state)
三能階幫泵系統需要有很強的幫泵,因為雷射躍遷的下能階是基態,為了達到居量反轉,必須將一半以上處於基態的粒子幫泵到上能階才行。
二、四能階活性介質系統
如圖3-30所示,為四能階系統,其幫泵強度較為小,因為雷射躍遷的下能階並非基態。其原理如下所述。
基態粒子經泵浦後激發至E4的粒子很快地衰落至E3的,而E3是一個亞穩態,因此在E3上可以得到粒子數的累積,如果E4→E3和 E2→E1的躍遷速率都很快。而E3→E2的躍遷速率很慢,則粒子反轉就很快在E3和E2之間達到。但是由於E2上的粒子數不會累積許多,因此在這樣的四能級系統中若要達到粒子數反轉,不需要在E3上累積很多的粒子,只要比E3上累積很多的粒子,只要比E2多就可以了,因此四能級系統所需的泵浦強度要小的多了。
構成四階系統的條件是,生命期32、21都很短,32大於21、43。就一般氣體雷射如氬子、氦鎘雷射,32約為21的一百倍,而且低能階E2與基能E1的能量間隔很大;E2→E1>>KBT。因此,低能階幾手沒有原子存在,累積濃度△N=N3-N2,當泵浦強度很小時,△N為正值了,而滿足了居量反轉的條件,所以這種效率要比三階系統高出許多。因此,在選擇活性材料時,最好選擇具有四階系統特性的材料。
生命期條件和激發機構可以決定雷射為連續輸出或以脈波(pulse)輸出。若高能階的生命期32大於低能階的生命期(21),則在足夠幫泵速率下,可以維持連續波的輸出,例如氦氖、二氣化碳、釹石榴石雷射。
雷射模態
光學
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