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- 2017-07-30 发布于河南
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第四章 扩散概述 1.???? 间隙式扩散机构 存在于晶格间隙的杂质,主要是半径小的杂质原子如Li、Na、K、Ar、He、H 。它们在Si中扩散运动是以间隙方式进行的。 2、? 替位式扩散机构 B、P、As、Sb、Al、Ga、Ge等杂质。替位杂质:占据晶格位置的外来杂质。如果替位杂质周围无空位,它必须要互相换位(与晶格上的原子,如B、Si等)才能实现往邻近晶格上运动 4.2 扩散方程 扩散运动 必要条件 重要因素 扩散结果 1、????????? 扩散方程的通解:(数学部分自学) 可得到 无限大物体扩散方程的通解式(3-11) -∞≤x≤∞ 半无限大的物体扩散方程通解,式(3-13)0≤x≤∞ 2、 扩散方程的特解:(数学部分自学) 限定源:书P70(3-20)(3-21)式浓度分布 恒定源:(3-32)浓度分布 扩散杂质分布的特征 (1)?? 恒定表面源扩散(两步法扩散中称为预扩散、预淀积) 边界条件: x=0时, N(0,t)=Ns t≥0 x=∞时, N(∞,t)=0 初始条件: t=0时 N(x,0)=0, x0 例1、制造npn小功率高频管,功率为300mW,频率150MHz,击穿电压VB为150V,最大电流Imax为800mA,电流放大系数β≥50-60,表面电阻为220Ω/ □ 例2、制造npn大功率管,功率为50
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