溅射气氛对ZnO∶N薄膜光学性能的影响.PDFVIP

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2017-07-31 发布于天津
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溅射气氛对ZnO∶N薄膜光学性能的影响

( ) 第卷第期吉林大学学报理学版 54 1 Vol.54 No.1 年月 ( ) 2016 1 JournalofJilinUniversit ScienceEdition Jan 2016 y : / doi10.13413 .cnki.dxblxb.2016.01.23 j j 溅射气氛对ZnO∶N薄膜光学性能的影响 , , , 高丽丽李淞菲曹天福张雪 ( , ) 北华大学物理学院吉林吉林 132013 : , , 摘要以陶瓷为靶材高纯和为溅射气体利用磁控溅射生长系统制备掺杂 ZnO N Ar N 2 , , 薄膜通过改变溅射气氛中的流量研究薄膜光学性能的变化规律其中 ZnO . N2 ZnO N2 ,, , / : , 流量分别控制为结果表明当溅射气氛中流量增加时薄 082032mLmin. N2 ZnO∶N , ; , 膜的光学带隙发生改变吸收边红移在室温光致发光光谱中紫外激子发射峰与可见光区 -1 , ; , , 发射峰强度的比值变小紫外激子发射峰位红移在Raman光谱中位于272642cm 附近的振动模增强. : ; ; 关键词 ZnO∶N薄膜溅射气氛光学性能中图分类号: 文献标志码: 文章编号: ( ) O472 A 1671-5489201601-0138-05 EffectofSutterin Ga