光学材料 - rising-eocom.PDF

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福州宏旭科技有限公司 光 学 石英玻璃是纯度是石英玻璃的重要指标,对理化性能和使用性能影响甚大,如失透性、高温强度、软化 材 点、光的传导、热稳定性、化学稳定性、耐辐射性、荧光特性等;此外,用于半导体工业的石英玻璃,对 料 纯度的要求更为苛刻,微量的杂质将给半导体材料的电性能和寿命以及集成度带来严重的影响。由于半导 体材料的纯度要求控制在ppb数量级以下,因此石英玻璃则应控制在PPm数量级以适应半导体工业的需要。 B 的分凝系数近于1,最难除掉,是最有害的杂质之一,Cu、Fe、Ti等影响半导体的少子寿命,K、Na、Li 是单晶材料产生微缺陷的有害杂质。 失透 (又叫析晶性)是石英玻璃的一个固有缺陷,从热力学观点看,石英玻璃 的内能高于结晶态方石英, 属热力学上不稳定的亚稳态,当温度高于1000℃时,SiO2 分子振动加速,经一段较长时间的重新排列、 定向便形成结晶。失透性是以晶核成长速度来表示的,不透明石英玻璃在1520℃、透明石英玻璃在1620 ℃析晶速度分别达到最大值。 析晶主要出现在表面,其次是内部缺陷处,原因是这些地方容易沾污,引 起杂质离子的局部集聚,特别是碱离子 (如K、Na、Li、Ca、Mg等)进入网络后引起粘度降低,促使失透 加速。 由于石英玻璃的热膨胀系数和比重同析晶产物β-方石英相近,所以在高温下连续使用时,尽管析 晶区不断扩大,但体积变化并不明显,仍可满意地继续使用,此时尚可减轻玻璃的塑性变形,使耐火度提 高。当析晶产物冷却到800℃时,则出现细小的龟裂网络。继续冷却到200-275℃时,则出现方石英从高 温型到低温型(即β-方石英→a-方石英)的结构变化,并伴随着发生体积聚变,如果析晶层很深,则石 英玻璃亦随之破裂。由于析晶常常出现在有杂质的地方,所以高温使用前的表面状态及周围耐火材料、气 氛十分重要。 石英玻璃属酸性材料,除氢氟酸和热磷酸外,对其它任何酸均表现为惰性,是最好的耐酸材料。在常温下 碱和盐对石英玻璃的腐蚀程度也是极微的,因此不排除在这些试剂中使用石英玻璃。透明石英玻璃比不透 明石英玻璃具有更好的化学稳定性,这是因为后者由于气泡的存在暴露在腐蚀液中的表面积增加所致。 石英玻璃的结构十分松弛,甚至在高温下还允许某些气体的离子通过网络进行扩散,其中以钠离子的扩散 为最快。石英玻璃的这一性能对于使用者尤为重要,例如,半导体工业用石英玻璃作为高温容器或扩散管 时,由于半导体材料要求很高的纯度,所以要求与石英玻璃接触的作为炉衬的耐火材料必须预先经过高温 和清洁处理,除掉钾、钠等碱性杂质,然后才能放入石英玻璃内使用。 石英玻璃的光学性能有其独到之处,它既可以透过远紫外光谱,是所有透紫外材料最优者,又可透过可见 光和近红外光谱。用户可以根据需要,从185-3500mμ波段范围内任意选择所需品种。由于石英玻璃耐高 温,热膨胀系数极小,化学热稳定性好,气泡、条纹、均匀性、双折射又可与一般光学玻璃媲美,所以它 是在各种恶劣场合下工作具有高稳定度光学系统的必不可少的光学材料。石英玻璃的结构,杂质含量,OH 基因及NO、CO等含量是影响光谱透过率的主要因素,氧原子结合不良在0.24μ处则有吸收峰,含有OH 基团的石英玻璃,在2.7μ处由于分子振动将产生明显的吸收峰,紫外透过率低主要是由于金属杂质多造 成原子吸收光谱所致。石英玻璃的光谱特性曲线 电熔石英玻璃是很好的透红外材料,但由于杂质的存在, 紫外透过率低。氢氧焰熔制水晶所获得的石英玻璃,由于氧结构缺陷,在0.24μ处有吸收峰,同时含有 OH基团,所以红外透过极低。用合成原料气炼的高纯光学石英玻璃是最好的透紫外材料,但在

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