电子学讲义 场效应电晶体 科 年级 班座号 姓名 一、电晶体: 1符号 a .DOC

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电子学讲义 场效应电晶体 科 年级 班座号 姓名 一、电晶体: 1符号 a .DOC

一、電晶體: 1.符號 a.PNP b.NPN 2.結構 a.射極( ):雜質摻雜濃度 ,負責 b.基極( ):雜質摻雜濃度 ,負責 c.集極( ):雜質摻雜濃度 ,負責 3.偏壓方式 工作區:BE接面 ,BC接面 接線圖 只要B-E間的偏壓超過障壁電位VBE,就會產生順向電流 , 通過基極時會有一小部分的電子與B極的電洞結合,形成 ,而B-C間的偏壓會使射極的其他電子到達集極,形成 Si的VBE = V ,Ge的VBE = V 飽和區:BE接面 ,BC接面 截止區:BE接面 ,BC接面 4.特性曲線 5.電流關係 a. IE= b. IC= IB電流放大率(( c. IC= IE= d.α與 β的關係 FET和BJT之差異 FET(場效應電晶體) BJT(雙極性電晶體) 導通電流控制 傳導電流 輸入阻抗 偏移電位 雜音 受輻射影響 熱穩定性 增益-頻寬乘積 工作速率 熱跑脫現象 體積 高頻響應 三、FET之分類 1.接面場效電晶體( ) n通道-載流體為 VGS             P通道-載流體為 VGS 2.金氧半場效電體( ) a.空乏型( 裝置) n通道─增強工作VGS              空乏工作VGS            p通道─增強工作VGS               空乏工作VGS b.增強型( 裝置) n通道 VGS                     VGS             p通道 VGS c.互補式金氧半場效電晶體( ) 3.V型場效電晶體( ) 四、JFET(接面場效應電晶體) 1.結構、 a.n通道 b.p通道 2.工作原理 VDD提供VDS產生ID電流,VGG提供VGS,使通道產生空乏區,通道寬度 ,ID A.VGS=0時 a.VDGVGS, PN b.VDS , ID, ID維持定值,稱為 IDSS c.VDS ,使閘極接面之逆向電壓達崩潰點,VD=BVDSS B.VDS固定 a.VGS , , ID b.VGS ,夾止現象愈早發生 C.P通道之偏壓反之 3.直流偏壓 A.固定偏壓   VGS= VDS= 圖解法: RG提供閘極直流通路∵IG很小(nA)∴VG= (1)畫出負載線   在ID=0時,VDS=      在VDS=0時,ID=    將兩點連接即得負載線 (2)算出相對值VGS之ID IDQ= (3)由IDQ可算出VDSQ值 VDSQ= B.自給偏壓-較實用   VGS= 利用轉換特性曲線求偏壓點 RS固定VGS由ID決定 令ID=0, VGS=A點 令ID=某值, VGS=B點 連接A、B偏壓線與曲線相交點為 C.分壓式偏壓 VG=VGG= VGSQ= 求出偏壓線 求出相對VGS值之IDQ值 算出VDQ= VSQ= ,VDQS=VDQ-VSQ= 空乏型MOSFET 1.符號、結構 a.n通道 b.p通道 2.工作原理(以N通道說明,P通道偏壓反之) VGS0,ID -空乏模式 VGS0, 更多的電子到通道中,通道變 ,電阻 ,ID -增強模式 VGS=0,加入適當

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