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300mm离子注入机靶室晶圆传输控制系统设计 Control System Design for Wafer Transmitter of 300mm Ion Implanter.pdfVIP

300mm离子注入机靶室晶圆传输控制系统设计 Control System Design for Wafer Transmitter of 300mm Ion Implanter.pdf

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300mm离子注入机靶室晶圆传输控制系统设计 Control System Design for Wafer Transmitter of 300mm Ion Implanter

m 300m离子注入机靶室晶圆传输 控制系统设计 谢均宇,杨亚兵,孙勇 (北京中科信电子装备有限公司,北京101111) 摘 要:在实现了高效晶圆传输全自动控制的基础上,阐述了靶室晶圆传送系统运动部件的结构 和各自的功能:介绍了整个晶圆传输控制系统的设计思路,在采用高性能多轴运动控制卡和机械 手模块的硬件基础上。引用了有限状态机对系统软件进行了智能化模型设计。 PMAC;有限状态机 关键词:晶圆传送系统;自动控制;机械手;Tu而o 中图分类号:TN305.3 文献标识码:B Control forWaferTransmitter Design System of300mmIon Implanter XIE Jun”,YANGY£lbing,SllnYong Elec咖ics (BeiJillgzIIongKexinEquil珊锄tCO.,LTD,10“ll,China) onnleachievementofWafIer Abst船ct:Thisbased T啪smitter盯stem’s p叩er the the劬ctionofl(inematic iIl仃oducestlleideaoftlleintclli— rcspectiVely锄d configuration锄d parts matadhibit Multi—AxisControlleralldRobot觚n gentizedsystem PrograIIl】啪ble module,andmodeling 谢ththeideaof state FSM(finitemachine). Keywords:WafcrT砌smitter;10nImplanter 离子注入机是半导体离子掺杂工艺线的关键 传输控制系统,是整机控制系统一个重要组成部 设备之一¨,随着市场上对半导体器件的要求的提 分,直接决定了整机的生产效率和可靠性。 高,对离子注入机的综合要求也越来越高。要求离 目前,300姗离子注入机已经成为国际高端集 子注入机具有:整机可靠性好、生产效率高、多种电 成电路生产线采用的主流机型,北京中科信电子装备 荷态离子宽能量范围注入、精确控制束注入能量精 有限公司作为国内离子注入机制造的领航者,为适应 度、精确控制束纯度、低尘粒污染、整机全自动控 大规模生产线工艺要求率先成功研制出300mm大角 制、注片均匀性和重复性好等多种功能和特征。这 度中束流离子注入机。本文要介绍的就是这台离子 一切都直接受控制技术的影响,而其中的靶室晶圆 注入机上的300mm靶室晶圆传送控制系统,包括 收稿日期:2010Ⅲ4.14 万方数据 ■=口型鲤型塑些塑唑堂些型型团墨銎基塑 :王堇皇墅童::王堇到亟 各个运动部件、硬件模块的选用及软件模块的设 三片晶圆,右机械手又将定位台上的晶圆取走,左机械 计。与以往的国产机型相比,这套系统除了达到

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