4500W超高压汞灯光源控制系统研究 Study on the Control System of 4500w and Extra High Voltage Mercury Light Source.pdfVIP

—jq堕螋墅塑喧唑堕生熊蜘螋墼唑螋国丑墨銎鬈塑 ：!￡型造王茎皇塑鱼：：!￡剑遣王堇量塑鱼： 4500W超高压汞灯光源 控制系统研究 马 平，胡志成，胡讼，徐文祥 (中国科学院光电技术研究所，四川成都610209) 摘 要：简要介绍了用于超大面积光刻设备汞灯光源控制系统的总体控制方案．重点阐述了该 控制系统信号放大电路、灯室温度采样放大电路及信号反馈控制方法。 关键词：超高压汞灯；信号放大；温度采样；信号反馈 中图分类号：TM923．322文献标识码：A ontheControl of4500wandExtra Study System High Source VoltageMercuryLight MA Ping，HUZhicheng，HUSong，XUWenxiang and ofOpticsElectronics，Chmese 610209，China) (Institute AcademyofSciences，Chengdu Abstract：Totalcontrol onthecontrol of sourcefor area project systemmercurylight superbig isintroducedinthis elaboratedthatthecontrol lithographyequipment briefly paper，particularly system‘S circuitindoorand feedbackcontrolmethod． signalenlargescircuit、temperaturesampleenlarges signal light；The feedback Keywords：Extrahighvoltagemercury signalenlarge；temperaturesample；Signal 随着微细加工技术的迅猛发展，集成度要求越 曝光系统要求照明区域大、照明强度高和照明均匀 来越高，芯片面积越来越大，这一趋势也直接促使 性好，是超大面积光刻设备研制的一个难点，而要 目前对超大面积光刻设备(12英寸以上)的巨大现满足以上要求，除了高性能光学成像系统外，光源 实需求。特别是近年来随着声表器件及超大面积、 控制系统同样至关重要。就目前而言，国内外超大 高容量液晶显示器等器件加速更新换代，其相应的 面积光刻、制版设备曝光系统大都采用超高压球形 光刻加工设备也必须向超大面积方向跨越发展，而 汞灯作为曝光光源【l】，因为该光源功率大、电流大、 曝光系统作为超大面积光刻设备的核心关键单元， 点亮后可辐射出很强的紫外光谱，这些谱线基本上 可以说代表了此类设备的整体研制水平。超大面积 覆盖了聚酯类光刻胶的感光区。但该光源具有难点 收稿日期：2010．03．31 基金项目：“西部之光”计划项目“用于平板显示器制造的反射式大面积照明系统研制” 万方数据 ·IC制造工艺与设亩。■二U■二一