LPCVD设备的高精度串级温度控制系统 Cascade Temperature Control with High Accuracy in LPCVD Equipment.pdfVIP

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2017-08-12 发布于上海
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LPCVD设备的高精度串级温度控制系统 Cascade Temperature Control with High Accuracy in LPCVD Equipment.pdf

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LPCVD设备的高精度串级温度控制系统 Cascade Temperature Control with High Accuracy in LPCVD Equipment

EPE 电子工业专用设备 Equipment for Electronic Produacts Manufacturing 设备制造与研究 LPCVD设备的高精度串级温度控制系统宋玲,廖炼斌,张勇,罗卫国中国电子科技集团公司第四十八研究所湖南长沙 410111 摘要在大部分半导体工艺中温度都是最重要的工艺参数之一炉温的均匀性和稳定度对工艺都有着至关重要的影响主要介绍了LPCVD设备中的高精度串级温度控制系统该系统结构简单控制效果良好温度稳定度 0.5/24h 关键词 LPCVD串级控制温度控制中国分类号 TN304.055文献标识码 A 文章编号 1004-4507(2006)04-0035-04 Cascade Temperature Control with High Accuracy in LPCVD Equipment SONG Ling, LIAO lian-bin, ZHANG Yong, LUO Wei-guo (48th Research Institute of China Electronics Technology Group Corporation, Changsha 4 10 111, China) Abstract: Temperature is one of the most important parameters in the most semiconductor process. The uniformity and stability of furnace temperature have essential influence on the LPCVD process. This paper introduces the cascade temperature control with high accuracy in the LPCVD equipment. This system is simple in structure and good control result that its stability of temperature is not more than 0.5/24h. Keywords: LPCVD; Cascade Control; Temperature Control 1 引言薄膜制备不可缺少的关键工艺设备之一随着 LPCVD技术的不断发展现已广泛应用于微电子微光机电系统(MOEMS)太机械系统(MEMS) 低压化学气相淀积 Low Pressure Chemical LPCVD设备主要用于集成电阳能电池等行业的研究和生产 Vapor Deposition 路圆片制造中生长多层布线层间绝缘膜(SiO膜) 影响LPCVD工艺的参数较多温度是其关键 2 电容器介质膜(SiN膜)和栅电极材料 Poly-Si膜参数之一随着圆片尺寸的增大以及对膜厚均匀性 3 4 的制备是微电子光电子行业芯片制造过程中的要求越来越高特别是新器件新工艺的发展对收稿日期 2006-03-10 作者简介宋玲 1972-女四