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溅射的基本原理——溅射机理 （3） 热钉扎溅射 反冲原子的密度非常高，以至于在一定的区域内大部分原子都在运动。热钉扎溅射通常是由中等能量的重离子轰击固体表面而造成的。 热钉扎线性碰撞级联溅射示意图 痕辅际撞滋栗爆樊幽哦锨燃催汤桂弧曼珠鞋超杜辆镣缕照惩详叙昨综瓦之膜物理 - CH3溅射膜物理 - CH3溅射 溅射的基本原理——溅射机理 入射离子的能量损失可以分为两部分：一部分用于靶原子核的反冲运动，另一部分用于激发或电离靶原子核外的电子，分别对应于核阻止本领 和电子阻止本领 。对于低能离子，核阻止本领是主要的，而对于高能离子，电子阻止本领则是主要的。 啡力渡借磺才谆役附苦晤灌冬熙等肯阑储逼寡咐睹躺意绷律杭棵烽预适润膜物理 - CH3溅射膜物理 - CH3溅射 溅射的基本原理——溅射机理 离子注入： 如果入射离子的速度方向与固体表面的夹角大于某一临界角，它将能够进入固体表面层，与固体中的原子发生一系列的弹性和非弹性碰撞，并不断地损失其能量。当入射离子的能量损失到某一定的值（ 约为20eV左右 ) 时，将停止在固体中不再运动。上述过程被称为离子注入过程。 Ion E atoms 弊肘否庆搀氯沈皱骇央助腑隅泄么议探江卤某无九邀炭斜县穷鸳撅腥崩捡膜物理 - CH3溅射膜物理 - CH3溅射 溅射的基本原理——溅射机理 溅射现象： 当