结构应用的CVD钨和钨一合金铼.pdf

一 c TcTf瞄l牟Ij 7 结构应用的CVD钨和钨一铼合金 ／0一l|。 TakehlkoHayashi，Sh[gehikoTakaoka等人 ． 研究 cv。钨和钨一诛合全的显微组 高主材 ‘反应室的分压影响 1沉积纯钨和钨一诛合金 的显微组织和表面粗糙度 。沉积纯钨和钨一诛合金 的晶粒度都在 0．5m 以下 实验证 明．细 晶粒鸽 的硬度 (Hv1000，室温 (R．T))、弯曲强 度 (R．T～1175K，8=700~ 1230MPa)和线性热膨胀 系数 (575~I175K，S=4．5～4．9×10 K )比柱状结构钨 大。 能的影响 (硬度、弯曲强度 、热冲击抗力及 热膨胀系数)，以此证实 CVD钨和钨一铼台金 钨是一种很重要的金属 ，由于熔点高．极 显徽组织与其基本性能之间的关系。 好的高温强度和硬度 ，热导以及耐化学 (碱 实验程序 和酸)腐蚀而具有多种用途．这些性能使得 钨常被用作加热元素、白炽灯灯丝以及金属 图1表示化学气相沉积装置的示意图， 和陶瓷烧结的盘皿 钨一铼台金也具有优 良的 性能 ．如高 的高温强度和延性 、高的再结晶 温度、耐电火花腐蚀和核辐射以及高的热离 气 子发射 ，因此，钨铼合金可以用作热电偶、x 线旋转阳极等。然而 ，粉末冶金钨和钨一铼合 金的用途受到了限制，因为很难加工成不同 形状的材料 。 过去一些论文 “ 对氢还原金属氟化物 沉积钨和钨一铼合金进行过研究。根据这些研 ’ 壹蕾f 器 究，cVD钨和钨一铼合金的如工参数，显微结 囝 1 CVD蓑置的示意舶 构和性能之间存在相互关系。在某些条件下 ， 沉积钨有显著的特性，如高密度和高纯度 。但 直径 125ram 的石墨基片 以 lOrpm转 是 ，很少研究显微组织，表面粗糙度和反应 动，用不锈钢室 内的水冷射频线圈加热。六 室的压力，喷嘴直径 以及细晶钨 (即晶粒度 氟化钨、六氟化铼和氢气借助于加热的不锈 小于 5m)的机城性能之间的关系。 钢管通过喷嘴输送到反应室。六氟化钨、六 作者在本文中研究了控制显徽组织和表 氟 化 铼 和 氢 气 的纯 度 分 别 是 99．999 、 面粗糙度的技术 ．旨在加工出各种形状的钨 99．99 、99．999 。在本 CVD装置 内用氢 和钨一铼合金 ，还研究了晶粒度对机械和热性 ·68 · 气与六氟化钨气体的比为 5：1的混合气体沉