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高-OH增强的深紫外性能
二氧化硅/二氧化硅 光纤 FDP 光
• 高-OH 纤
• 增强的深紫外性能
FDP特性
阶跃折射率 可消毒生物相容-USP6类
数值孔径： 0.22 ±0.02 高激光破坏阈值
全接受光锥：25.4度 高-OH二氧化硅纤芯，掺杂二氧化硅包层
运行波长低至190nm 标准的聚酰亚胺缓冲层
超高紫外传输 聚酰亚胺同心度≤3µm
超低紫外日晒 尺寸、缓冲层及组件可定制
出色的抗辐射性能 验证测试可达100kpsi
运行温度– 65 ºC 至+300 ºC
在深紫外区(190nm - 325nm)应用时，必须考虑高紫外辐射对二氧化硅纤芯光纤传输的影响。日晒变化
取决于使用的光纤类型以及紫外源的强度及光谱输出。变化的大小与波长有关。
高-OH纤芯
掺杂二氧化
产品编码 纤芯 (µm) 包层 (µm) 缓冲层 (µm) 硅包层
聚酰亚胺
FDP100110125 100 ± 3 110 ± 3 124 ± 3 缓冲层
FDP200220240 200 ± 4 220 ± 4 240 ± 5
FDP400440480 400 ± 8 440 ± 9 480 ± 7
FDP600660710 600 ± 10 660 ± 10 710 ± 10
注释：该表所列物料为标准配置及标
准尺寸的物料。可根据要求提供其它
配置的物料。请告之我公司应该如何
帮助您以满
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