LP1000芯片使用说明-晶能光电
晶能光电晶能光电 (江西(江西)有限公司)有限公司
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LP1000LP1000 芯片使用说明芯片使用说明
LP1000LP1000 芯片使用说明芯片使用说明
这份使用说明让客户对本型号芯片具有初步的了解,并根据芯片结构特性为客户使
用提供必要的操作建议
芯片结构说明芯片结构说明
芯片结构说明芯片结构说明
本型号芯片横截面如图 1。
本型号芯片为 Si 衬底 GaN 基垂直结构产品,上表面N电极材料为 Au(极性为负),
芯片底部接触层材料即 P 电极为 Au(极性为正),可用导电银胶或锡膏进行固晶;
InGaN 层和 Si 基板层都是易碎材料,因此芯片在操作过程应尽可能谨慎,避免过大
应力作用于芯片上,也应避免使用尖锐的硬质工具对芯片进行作业,以防损坏芯片;
请勿将粘性膜或胶类接触芯片表面,否则芯片表面被污染会降低芯片出光效率,甚
至污染灌封硅胶,导致固化不良。
Au 焊线电极 (N 极)
钝化层
GaN
粘结金属层
200um Si 基板
Au 接触层 (P 极)
图 1
芯片固晶作业芯片固晶作业
芯片固晶作业芯片固晶作业
自动设备固晶要点自动设备固晶要点
自动设备固晶要点自动设备固晶要点
1. 为避免 LED 芯片可能发生的 ESD 损伤,在撕蓝膜以及离心膜过程中,请使用离子
风扇进行作业;
2. LED 芯片的厚度为 200um,银胶 (或锡膏)不可过高,否则可能会导致短路,也
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