纯钯电沉积及其成核机理研究①.PDF

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纯钯电沉积及其成核机理研究①

第 3 卷 第 1 期 电化学 V o l. 3 N o. 1 1997 年 2 月 EL ECTROCH EM ISTR Y Feb. 1997 ·96 电镀会议推荐论文· 纯钯电沉积及其成核机理研究① 杨防祖 许书楷 姚士冰 陈秉彝 郑雪清 钟晓慧 周绍民 ( 厦门大学化学系物理化学研究所 厦门 361005) 摘要 研究在柠檬酸钾和草酸铵镀液体系中纯钯电沉积及电结晶机理. 结果表明, 采用本实 验室研制的添加剂② 4 和 7, 可在电流密度 0. 5~ 3. 5 2 , 温度 40~ 60 ℃的宽广范围内 XP XP A dm 获得全光亮的钯电沉积积层. 采用脉冲电源电镀可有效地改善厚沉积层质量, 减少沉积层裂纹和 孔洞. 循环伏安实验表明, 钯电极过程的阴阳极峰电位之差达 1. 05 V , 说明其电极过程明显不可 逆; 伏安图上同时出现一感抗性电流环, 说明钯沉积过程发生晶核形成过程; XP 4 和XP 7 阻化电 沉积和氢的析出, 提高钯电沉积的沉积电位. 电位阶跃实验进一步表明, 钯遵循连续成核和三维 生长的电结晶机理. 关键词 钯, 电沉积, 成核, 脉冲电镀 钯电沉积层在电子工业中可以代替硬金作为电插件镀层. 根据金和钯的本身价格及密度 的差异计算, 单位面积同样厚度的钯和金比较, 钯的材料费只有金的三分之一, 而且因为它的 某些性能如电导率、可焊性、抗蚀性和耐磨性可与硬金镀层相媲美. 在高档的镀金饰品中, 也可 以钯代替镍或钯镍合金作为镀金底层, 这不仅可以提高装饰品的档次, 而且可避免与镍接触引 [ 1 ] 起的皮肤炎和其他皮肤病. 此外, 钯还可望代替价格昂贵的铑 . [ 2~ 14 ] [ 15~ 19 ] 有关纯钯的电镀工艺、电沉积机理和钯氢共沉积机理的研究 以及专利 已有不少 报道, 然而, 钯对氢具有极强的吸收能力, 在其电沉积过程中由于氢的共沉积而严重影响沉积 层质量, 因此较厚的钯镀层内应力高, 而且出现针孔和裂纹. 本文采用本实验室研制的添加剂, 在柠檬酸盐弱碱性体系中获得满意的纯钯沉积层, 并着重研究钯的电沉积机理. 1 实验条件 1. 2 实验仪器 钯的电沉积实验采用江苏省启东长江电子仪器厂的 JW Y 30S 晶体管组合稳压电源和上 海南汇电讯器材厂的 791 型磁力加热搅拌器. 电化学实验系统主件采用美国P ine 仪器公司的RD E 4 双恒电位仪及四川仪器厂的 3033 ( 2 ) 型 函数记录仪. 研究电极为玻碳电极 工作面积为 0. 196 , 丝为辅助电极, 饱和甘 X Y cm P t ( ) 汞电极为参比电极 文中电位均相对于此电极 , 扫描速度为 50 . mV s ① 本文收到;  国家自然科学基金资助课题 ② 添加剂 4、 7、 和 为杂环有机化合物及其聚合产物 XP XP PPS FF 1·04 · 电 化 学

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