磁控溅射法制备金属薄膜的工艺参数课件.ppt

总结 工艺参数的改变对薄膜厚度和紫外可见光透过率有显著影响，合理控制参数，对于制取各种理想薄膜有非常重要的意义。 致谢 特在此感谢崔金刚老师、李景奎老师以及陈凯同学对我论文的指导和帮助。 在毕业的时刻，也在此感谢四年来一起走过的所有老师和同学们，这份情谊永生难忘！ 实验要回答的问题 * 在 3 到 5 个方面 总结您的研究。 * 磁控溅射法制备金属薄膜的工艺参数 对薄膜厚度和透过率的影响 答辩人：谢文权 班级：10级物理一班 指导老师：崔金刚 副教授 毕业论文  论文主要任务：利用磁控溅射技术在玻璃基底上镀制Al、Cr、Zn薄膜，并研究薄膜的工艺参数对薄膜厚度及紫外可见光的透过率的影响。分析得出相关结论。 采用控制变量法设计实验和对比分析问题 论文结构和主要内容 前言：研究的目的和意义 磁控溅射镀膜 磁控溅射法在玻璃表面镀膜 薄膜厚度测量及数据分析 薄膜紫外线可见光透过率光谱扫描和数据分析 结论 磁控溅射原理图 铝靶材镀膜 辉光图 直流溅射 极限真空度3.0×10-4 Pa，氩气气流量20 cm3/min，镀膜时间5 min