钼限制器及不同壁条件下ht-7等离子体有效电荷数及杂质行为 - east.ppt

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钼限制器及不同壁条件下ht-7等离子体有效电荷数及杂质行为 - east

钼限制器及不同壁条件下 HT-7等离子体有效电荷数及杂质行为研究 光谱组 实验背景和基本状况 实验内容 实验方法及所需诊断 预期结果 研究背景 2011年,HT-7限制器材料更换为钼,相对与石墨的低Z材料,和钨类似的高Z材料钼具有低溅射、不与H发生化学反应、以及低的H滞留和再循环等优点,然而会融化,存在高Z杂质辐射、高热负荷下再结晶脆化甚至熔化、蒸发等问题。硼化、锂化等壁处理对芯部等离子体能量、等离子体杂质、点火阶段等离子体参数、氘滞留量,氢氘比都有很大的影响。 在全金属壁和低再循环条件下,等离子体的特征会和全石墨壁有较大的不同,因此,本次实验我们通过各种光谱诊断的监测,并和上轮情况进行对比,分析钼限制器条件下等离子体杂质行为的特征,并且观察锂化等壁处理对其影响。 鉴于EAST将来会升级为钼壁或者钨壁,此次研究能够为EAST实验奠定基础,具有重要意义。 Alcator C-Mod FTU Fig. Normalized Mo concentration versus electron density. Fig. Zeff (Ip=0.5 MA) versus electron density for discharges with different plasma facing materials. Fig. Radial bolometric profiles. Fig. Total radiation losses. Alcator C Fig. ICRF heating(~380kW) in a deuterium plasma. Shown are plasma current, average density, ion temperature of deuterium component, brightness of Fe XXIII 132.87A resonance line, soft-X-ray emission (SXR,1-8keV),and Zeff. Fig. Evolution of the brightness of the Fe IX resonance line(17.19nm) during ICRF(~350kW)。 Fig. Evolution of VUV, showing spectra taken before and just after the ICRF pulse. Fig. Change in Zeff during ICRF pulse versus injected RF power. Alcator C Fig. Evolution of boundary electron temperature. HL-1M Fig. CIII (1) and OVI (2) line radiation intensities as a function of the line averaged electron densities for different wall conditions under similar discharge parameters. Fig. Core radiated power losses as a function of the line averaged electron densities for different wall conditions under similar discharge parameters. EAST 所用光谱诊断 实验内容 a)钼限制器条件下,等离子体杂质的基本特征; b)锂化等壁处理前后及锂限制器情况下,等离子体品性、杂质水平、杂质线辐射强度等的对比分析; c)各种加热模式下的杂质行为; d)与上轮石墨限制器情况进行纵向对比; 实验方法及所需诊断 保持壁温一致,锂化前、锂化后两阶段分别如下参数: Ip=100,250kA; ne=1,2,3×e19m-3; PLHW/PICRF=100~600kW; 实验分两阶段进行,各36炮,锂限制器或补充; 所需诊断为: 可见韧致辐射、杂质谱线监测,光纤光谱仪、 SP300、软X能谱、密度诊断等 ; 预期结果 (1)钼限制器条件下,Mo会取代C成为主要杂质,能观测到的杂质为Mo、C(仍有石墨瓦)、O等; (2)等离子体有效电荷数会与石墨限制器情况有不同; (3)壁处理后,Mo、C、O等杂质含量会降低,Li杂质会增加,以及等离子体内能也有变化; (4)获

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